[发明专利]一种带膜组件自有缺陷检测方法及装置

说明书

本申请提供了一种带膜组件自有缺陷检测方法及装置，其中，所述方法包括：获取基准特征光谱，所述基准特征光谱包括：带理想保护膜组件的第一特征光谱和带脏污组件的第二特征光谱；根据所述第一特征光谱，获取待测带膜组件的第一图像；根据所述第二特征光谱，获取待测带膜组件的第二图像；对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷。本申请提供的检测方法能够有效解决现有表面缺陷检测方法准确率低的问题。

技术领域

本申请涉及电子产品组件缺陷检测领域，尤其涉及一种带膜组件自有缺陷检测方法及装置。

背景技术

在电子消费产品组件，如液晶显示屏、电池、音膜、摄像头等的制造过程中，由于工艺不良、环境洁净度不足、搬运碰撞等原因，电子产品组件的表面会产生划伤、污迹、崩边等缺陷。电子消费产品的生产和使用对组件表面的洁净度要求非常高，因此，为了保证组件表面的洁净度，清洗和贴附保护膜是最常用的方式。电子产品组件的表面质量通常在清洗、贴膜之后进行，因此，准确检测出带膜电子产品组件的表面缺陷能够有效提高产品良率并降低制造成本。

通常，采用自动光学检测方法(Automatic Optic Inspection，AOI)对电子产品组件的表面进行缺陷检测，该方法采用工业相机配合合理的光源照明方式对电子产品组件的表面进行图像采集，然后利用视觉处理系统对采集到的图像进行处理，并通过运算输出检测结果。

但是发明人在使用AOI检测电子产品组件的表面缺陷时，存在一些问题。若上游工艺中清洗机未能完全洗净组件表面的脏污或者保护膜本身存在损伤，在采用AOI检测时，由于清洗后残留的脏污与组件自有脏污的成像特征相同；保护膜划伤与组件表面自有划伤的成像特征相同。因此，单纯地利用视觉处理系统难以对组件自有缺陷与外界干扰因素加以区分，会大大降低检测的准确率。

发明内容

本申请提供了一种带膜组件自有缺陷检测方法及装置，以解决现有表面缺陷检测方法准确率低的问题。

本申请第一方面提供了一种带膜组件自有缺陷检测方法，所述方法包括：

获取基准特征光谱，所述基准特征光谱包括：带理想保护膜组件的第一特征光谱和带脏污组件的第二特征光谱；

根据所述第一特征光谱，获取待测带膜组件的第一图像；

根据所述第二特征光谱，获取待测带膜组件的第二图像；

对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷。

可选地，所述获取基准特征光谱的具体步骤包括：

获取理想组件、带理想保护膜组件和带脏污组件的光谱响应曲线；

根据所述理想组件的光谱响应曲线和所述带理想保护膜组件的光谱响应曲线，确定令理想保护膜不成像的所述第一特征光谱；

根据所述理想组件的光谱响应曲线和所述带脏污组件的光谱响应曲线，确定令组件脏污不成像的所述第二特征光谱。

可选地，所述根据所述第一特征光谱，获取待测带膜组件的第一图像和所述根据所述第二特征光谱，获取待测带膜组件的第二图像的具体步骤还包括：

根据所述第一图像，确定第一图像的灰度值分布；

根据所述第二图像，确定第二图像的灰度值分布。

可选地，所述对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷的具体步骤包括：

根据所述第一图像的灰度值分布与所述第二图像的灰度值分布，确定所述第一图像与所述第二图像的各灰度区域的重合度值；

判断所述重合度值是否为0；

如果所述重合度值为0，则所述待测带膜组件不存在自有缺陷；