[发明专利]一种带膜组件自有缺陷检测方法及装置

权利要求书

1.一种带膜组件自有缺陷检测方法，其特征在于，所述方法包括：

获取基准特征光谱，所述基准特征光谱包括：带理想保护膜组件的第一特征光谱和带脏污组件的第二特征光谱；

根据所述第一特征光谱，获取待测带膜组件的第一图像；

根据所述第二特征光谱，获取待测带膜组件的第二图像；

对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷；

所述获取基准特征光谱的具体步骤包括：

获取理想组件、带理想保护膜组件和带脏污组件的光谱响应曲线；

根据所述理想组件的光谱响应曲线和所述带理想保护膜组件的光谱响应曲线，确定令理想保护膜不成像的所述第一特征光谱；

根据所述理想组件的光谱响应曲线和所述带脏污组件的光谱响应曲线，确定令组件脏污不成像的所述第二特征光谱。

2.根据权利要求1所述的带膜组件自有缺陷检测方法，其特征在于，所述根据所述第一特征光谱，获取待测带膜组件的第一图像和所述根据所述第二特征光谱，获取待测带膜组件的第二图像的具体步骤还包括：

根据所述第一图像，确定第一图像的灰度值分布；

根据所述第二图像，确定第二图像的灰度值分布。

3.根据权利要求2所述的带膜组件自有缺陷检测方法，其特征在于，所述对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷的具体步骤包括：

根据所述第一图像的灰度值分布与所述第二图像的灰度值分布，确定所述第一图像与所述第二图像的各灰度区域的重合度值；

判断所述重合度值是否为0；

如果所述重合度值为0，则所述待测带膜组件不存在自有缺陷；

如果所述重合度值大于0，则所述待测带膜组件存在自有缺陷，且灰度区域相同处为自有缺陷区域。

4.根据权利要求2所述的带膜组件自有缺陷检测方法，其特征在于，所述对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷的具体步骤包括：

根据所述第一图像的灰度值分布，提取各相同灰度值区域的第一图像子灰度值；

根据所述第二图像的灰度值分布，提取各相同灰度值区域的第二图像子灰度值；

遍历所述第一图像子灰度值和所述第二图像子灰度值，判断子灰度值是否相同；

如果子灰度值相同，则所述待测带膜组件存在自有缺陷，且相同子灰度值对应的灰度值区域为自有缺陷区域；

如果子灰度值不相同，则所述待测带膜组件不存在自有缺陷。

5.一种带膜组件自有缺陷检测装置，其特征在于，所述装置包括：

基准特征光谱获取单元，用于获取基准特征光谱，所述基准特征光谱包括：带理想保护膜组件的第一特征光谱和带脏污组件的第二特征光谱；

第一图像获取单元，用于根据所述第一特征光谱，获取待测带膜组件的第一图像；

第二图像获取单元，用于根据所述第二特征光谱，获取待测带膜组件的第二图像；

图像对比单元，用于对比所述第一图像与所述第二图像，判断所述待测带膜组件是否存在自有缺陷；

所述基准特征光谱获取单元包括：

光谱响应曲线获取单元，用于获取理想组件、带理想保护膜组件和带脏污组件的光谱响应曲线；

第一特征光谱确定单元，用于根据所述理想组件的光谱响应曲线和所述带理想保护膜组件的光谱响应曲线，确定令理想保护膜不成像的所述第一特征光谱；

第二特征光谱确定单元，用于根据所述理想组件的光谱响应曲线和所述带脏污组件的光谱响应曲线，确定令组件脏污不成像的所述第二特征光谱。

6.根据权利要求5所述的带膜组件自有缺陷检测方法，其特征在于，

所述第一图像获取单元包括：

第一灰度值分布确定单元，用于根据所述第一图像，确定第一图像的灰度值分布；

所述第二图像获取单元包括：

第二灰度值分布确定单元，用于根据所述第二图像，确定第二图像的灰度值分布。