[发明专利]一种图案可控的激光剥离金属薄膜的方法

说明书

本发明公开了一种图案可控的激光剥离金属薄膜的方法，包括如下步骤：步骤S1，依次采用丙酮、酒精、去离子水对玻璃基片进行超声波清洗；步骤S2，在清洗后的玻璃基片上沉积银膜层；步骤S3，利用激光器按照指定图形对银膜层进行刻蚀，使得刻蚀后的银膜层在玻璃基片上发生剥离形成银模板；步骤S4，在银模板上沉积金属或氧化物，步骤S5，并将其放入硝酸溶液中进行浸泡清洗，而后用无纺布擦拭留下所需位置的金属或氧化物的薄膜，其中，步骤S3中的激光器为Nd：YAG激光器，该激光器发出的激光的波长为1064nm，功率为3‑7W，脉宽为200ns，激光脉冲频率为45KHz，束斑大小为0.01mm。

技术领域

本发明属于纳米材料制备技术领域，具体涉及一种图案可控的激光剥离金属薄膜的方法。

背景技术

光刻工艺是制备图案可控金属薄膜的常用方法。一次光刻是指一个掩模板进行一次曝光显影的过程，在此过程中可能包括对衬底基板上膜层的多次刻蚀。刻蚀后，光刻胶会形成具有保留区域和去除区域的光刻胶图案。位于去除区域的光刻胶图案下方的金属薄膜将不受到保护，即将需要受到保护的金属薄膜上方的光刻胶处于完全保留区域或者部分保留区域。然而，形成的保留区域或者部分保留区域较多或较复杂，掩模板的使用次数就会增加，甚至还会利用到昂贵的特殊模板，从而使生产成本增加。此外，光刻胶还具有一定程度的毒害。所以，现在迫切需要一种更便捷的部分金属薄膜保护方法。

中国发明专利申请CN 103676470 A(发明名称“一种形成光刻胶图案的方法及装置”)公开了一种形成光刻胶图案的方法及装置，该方法虽然具有一定优点，但仍然存在以下缺陷：1)制备过程耗时，并且繁琐；2)光刻胶具有一定的毒害性，并且容易坍塌；3)图案曝光过程需要在高温下进行，具有一定的危害，所以需要一种方法来进行改进。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而进行的，目的在于提供一种图案可控的激光剥离金属薄膜的方法。

本发明提供了一种图案可控的激光剥离金属薄膜的方法，具有这样的特征，包括如下步骤：

步骤S1，依次采用丙酮、酒精、去离子水对玻璃基片进行超声波清洗；

步骤S2，在清洗后的所述玻璃基片上沉积银膜层；

步骤S3，利用激光器按照指定图形对所述银膜层进行刻蚀，使得刻蚀后的所述银膜层在所述玻璃基片上发生剥离形成银模板；

步骤S4，在所述银模板上沉积金属或氧化物；

步骤S5，将沉积金属或氧化物后的所述银模板其放入硝酸溶液中进行浸泡清洗，而后用无纺布擦拭留下所需位置的所述金属或所述氧化物的薄膜，

其中，所述步骤S3中的激光器为Nd：YAG激光器，该激光器发出的激光的波长为1064nm，功率为3-7W，脉宽为200ns，激光脉冲频率为45KHz，束斑大小为0.01mm。

在本发明提供的图案可控的激光剥离金属薄膜的方法中，还可以具有这样的特征：其中，步骤1中的玻璃基片为石英。

在本发明提供的图案可控的激光剥离金属薄膜的方法中，还可以具有这样的特征：其中，步骤1中的超声波清洗时间为10min。

在本发明提供的图案可控的激光剥离金属薄膜的方法中，还可以具有这样的特征：其中，Nd：YAG激光器的速度为200-500mm/s，线间距为0.1-0.3mm，刻蚀重复次数为1次。

在本发明提供的图案可控的激光剥离金属薄膜的方法中，还可以具有这样的特征：其中，步骤4中硝酸溶液的浓度为10.5％。

在本发明提供的图案可控的激光剥离金属薄膜的方法中，还可以具有这样的特征：其中，步骤4中浸泡清洗的时间为12h。

发明的作用与效果