[发明专利]一种超薄划片刀的电镀液组合物、其制备方法和应用

权利要求书

1.一种超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述的原料包含下列组分：硫酸镍、氯化镍、硼酸、1,8-萘磺酸内酯、1,4-双(3-氨基苯)丁二炔、表面γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性的纳米金刚石、十二烷基磺酸钠和去离子水；

其中，所述的表面γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性的纳米金刚石由下述制备方法制得，所述的制备方法包括下列步骤：溶剂中，将纳米金刚石粒子和γ-氨丙基三乙氧基硅烷混合，进行反应，所述γ-氨丙基三乙氧基硅烷的质量为溶剂和γ-氨丙基三乙氧基硅烷的混合物质量的95.0％以上，但不为100％。

2.如权利要求1所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，每升所述电镀液中所述的硫酸镍的质量为200-300g；

和/或，每升所述电镀液中所述的氯化镍的质量为20-30g；

和/或，每升所述电镀液中所述的硼酸的质量为25-35g；

和/或，每升所述电镀液中所述的1,8-萘磺酸内酯的质量为0.2-0.3g；

和/或，每升所述电镀液中所述的1,4-双(3-氨基苯)丁二炔的质量为0.2-0.3g；

和/或，每升所述电镀液中所述的表面γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性的纳米金刚石的质量为0.4-0.7g；

和/或，每升所述电镀液中所述的十二烷基磺酸钠的质量为0.005-0.01g。

3.如权利要求1所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，每升所述电镀液中所述的硫酸镍的质量为250g；

和/或，每升所述电镀液中所述的氯化镍的质量为25g；

和/或，每升所述电镀液中所述的硼酸的质量为30g；

和/或，每升所述电镀液中所述的1,8-萘磺酸内酯的质量为0.25g；

和/或，每升所述电镀液中所述的1,4-双(3-氨基苯)丁二炔的质量为0.25g；

和/或，每升所述电镀液中所述的表面γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性的纳米金刚石的质量为0.55g；

和/或，每升所述电镀液中所述的十二烷基磺酸钠的质量为0.007g。

4.如权利要求1所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，所述的表面γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性的纳米金刚石由下述方法制得，所述的方法包括以下步骤：将γ-氨丙基三乙氧基硅烷和溶剂的混合液与纳米金刚石混合，进行所述的反应，即可；所述的混合的操作为超声分散的方式混合；

和/或，所述的γ-氨丙基三乙氧基硅烷质量百分比含量为95.0％-99.0％；

和/或，所述的溶剂为芳烃类溶剂；

和/或，所述的溶剂与所述的纳米金刚石的体积质量比为50-60mL/g；

和/或，所述的反应的时间为24-48小时；

和/或，所述的反应温度为室温，所述的室温为10-30℃。

5.如权利要求4所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，所述的芳烃类溶剂为甲苯。

6.如权利要求4所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，所述的反应的时间为24-36小时。

7.如权利要求4所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，所述的室温为25℃。

8.如权利要求1所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，所述的表面γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性的纳米金刚石的制备方法中，所述的反应结束后，还可进一步包括分离、洗涤和干燥的操作。

9.如权利要求8所述的超薄划片刀的电镀液组合物，其特征在于，所述的分离为离心分离；

和/或，所述的洗涤为依次用甲苯和去离子水洗涤；

和/或，所述的干燥为真空干燥；

和/或，所述的真空干燥的时间为24-36小时；

和/或，所述的真空干燥的温度为40-50℃。