[发明专利]硅异质结太阳电池的金属栅线电极和硅异质结太阳电池在审
| 申请号: | 201810129811.X | 申请日: | 2018-02-08 |
| 公开(公告)号: | CN110137289A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
| 发明(设计)人: | 宗军;王伟;田宏波;赵晓霞;杨瑞鹏;周永谋;王恩宇;李洋;王雪松 | 申请(专利权)人: | 国家电投集团科学技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/05 | 分类号: | H01L31/05;H01L31/072 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
| 地址: | 102209 北京市昌平区未来科技城国*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 副栅线 硅异质结太阳电池 金属栅线电极 主栅线 平行布置 电流收集 相交设置 光作用 电极 电阻 遮光 遮挡 平行 相交 垂直 电池 平衡 | ||
1.一种硅异质结太阳电池的金属栅线电极,其特征在于,包括:
一条主栅线;
第一组副栅线,所述第一组副栅线包括多根平行布置的副栅线,所述第一组副栅线垂直且相交于所述主栅线设置;
第二组副栅线,所述第二组副栅线包括多根平行布置的副栅线,第二组副栅线平行于所述主栅线且与所述第一组副栅线相交设置。
2.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述主栅线位于硅异质结太阳电池中央或者偏离中央的任一侧。
3.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述第二组副栅线全部分布在所述主栅线的一侧。
4.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述第二组副栅线分布在所述主栅线的两侧。
5.根据权利要求4所述的金属栅线电极,其特征在于,所述第二组副栅线中相邻两根副栅线之间的间距沿远离所述主栅线的方向逐渐增加。
6.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述第一组副栅线的多根副栅线为等间距布置。
7.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述主栅线的宽度为0.3~3mm,高度为15~50μm,
任选地,所述副栅线的宽度为20~50μm,高度为15~50μm。
8.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述第一组副栅线包括50~160根平行布置的副栅线,
任选地,所述第二组副栅线包括2~100根平行布置的副栅线。
9.根据权利要求1所述的金属栅线电极,其特征在于,所述主栅线和所述副栅线包括Cu或Cu与Mo、W、Ti、Ni、Cr、Al、Mg、Ta、Sn、Zn、Ag、P中的至少之一所形成的合金,
或者,所述主栅线和所述副栅线包括Ag或Ag的合金。
10.一种硅异质结太阳电池,其特征在于,包括:
n型晶硅衬底;
第一轻掺杂n型氢化非晶硅层,所述第一轻掺杂n型氢化非晶硅层形成在所述n型晶硅衬底的上表面;
第二轻掺杂n型氢化非晶硅层,所述第二轻掺杂n型氢化非晶硅层形成在所述n型晶硅衬底的下表面;
重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层形成在所述第一轻掺杂n型氢化非晶硅层的上表面;
重掺杂n型氢化非晶硅背场层,所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层形成在所述第二轻掺杂n型氢化非晶硅层的下表面;
第一透明导电氧化物层,所述第一透明导电氧化物层形成在所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层的上表面;
第二透明导电氧化物层,所述第二透明导电氧化物层形成在所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层的下表面;
权利要求1~9任一项所述的金属栅线电极,所述金属栅线电极形成在所述第一透明导电氧化物层的上表面和所述第二透明导电氧化物层的下表面。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





