[发明专利]一种光路敏感型加速度计

权利要求书

1.一种光路敏感型加速度计，其特征在于，包括光源(2)、光电探测器(3)、透镜(4)和第一MEMS芯片，其中，第一MEMS芯片包括反射镜(6)、支撑梁(7)和质量块(8)；所述反射镜(6)设置在质量块(8)上，所述质量块(8)与支撑梁(7)连接，在加速度作用下，所述支撑梁(7)使得质量块(8)沿Z轴方向发生位移；

所述透镜(4)置于光源(2)、光电探测器(3)所在平面和反射镜(6)所在平面之间；

所述光电探测器(3)用于接收由光源(2)产生、由透镜(4)调整光路路径，最终由反射镜(6)反射回来的光；

其中，所述光源(2)的出光口和光电探测器(3)的中心轴关于透镜(4)的中轴线成左右对称；

将光电探测器(3)的探测面积设计为和光斑的尺寸一致，使得光斑偏移后会产生明显光路损耗，更便于测量。

2.根据权利要求1所述的光路敏感型加速度计，其特征在于，所述反射镜(6)是通过在质量块(8)的表面镀金或镀银完成的，反射率大于等于97％。

3.根据权利要求1所述的光路敏感型加速度计，其特征在于，所述反射镜(6)处于透镜(4)的焦距的位置。

4.根据权利要求1所述的光路敏感型加速度计，其特征在于，所述加速度计还包括外壳(1)和上基板(9)，所述上基板(9)固定于外壳(1)的内壁，所述光源(2)、光电探测器(3)和透镜(4)均固定在上基板(9)上。

5.根据权利要求4所述的光路敏感型加速度计，其特征在于，所述第一MEMS芯片还包括下基底(5)，所述下基底(5)固定于外壳(1)的内壁，所述质量块(8)通过支撑梁(7)与下基底(5)相连。

6.根据权利要求5所述的光路敏感型加速度计，其特征在于，所述第一MEMS芯片是一个整体，通过体硅刻蚀技术制作而成。