[发明专利]器件封装结构及封装过程中应力释放的方法在审

专利信息
申请号: 201810045602.7 申请日: 2018-01-17
公开(公告)号: CN108257882A 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 杨天伦 申请(专利权)人: 中芯集成电路(宁波)有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/31;H01L23/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 沈宗晶
地址: 315899 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 承载部件 应力释放 塑封层 器件封装结构 封装单元 封装过程 开口 后续工艺 间隔固定 器件封装 翘曲度 减小 量产 塑封 释放 覆盖 制作
【权利要求书】:

1.一种器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供一承载部件,将多个待封装单元间隔固定于所述承载部件上;

在所述承载部件上形成塑封层,所述塑封层覆盖所述承载部件以及所述待封装单元;

在所述塑封层上形成多个应力释放开口,所述应力释放开口与所述待封装单元位于所述塑封层上的不同位置。

2.如权利要求1所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,采用模具法在所述塑封层上形成所述应力释放开口。

3.如权利要求1所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,采用刻蚀的方法在所述塑封层上形成所述应力释放开口。

4.如权利要求1所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,所述应力释放开口为通孔或隔离槽。

5.如权利要求4所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,多个所述隔离槽沿第一方向或/和第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向垂直。

6.如权利要求1所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,将多个待封装单元间隔固定于所述承载部件上之前,所述器件封装方法还包括:在所述承载部件上形成胶合层。

7.如权利要求6所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,所述应力释放开口贯穿所述塑封层,暴露出所述胶合层。

8.如权利要求1~7中任一项所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,在所述塑封层上形成多个应力释放开口之后,所述器件封装方法还包括:对所述应力释放开口进行填充,并进行平坦化。

9.如权利要求8中任一项所述的器件封装过程中应力释放的方法,其特征在于,对所述应力释放开口进行填充,并进行平坦化之后,所述器件封装方法还包括:移除所述承载部件。

10.一种器件封装结构,其特征在于,包括:

一承载部件;

多个待封装单元,所述待封装单元间隔固定于所述承载部件上;

塑封层,所述塑封层覆盖所述承载部件以及所述待封装单元;

多个应力释放开口,所述应力释放开口位于所述塑封层上,且与所述待封装单元位于所述塑封层的不同位置处。

11.如权利要求10所述的器件封装结构,其特征在于,所述应力释放开口为通孔或隔离槽。

12.如权利要求11所述的器件封装结构,其特征在于,多个所述隔离槽沿第一方向或/和第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向垂直。

13.如权利要求10所述的器件封装结构,其特征在于,所述器件封装结构还包括:胶合层,所述胶合层位于所述承载部件与所述待封装单元、所述塑封层之间。

14.如权利要求13所述的器件封装结构,其特征在于,所述应力释放开口贯穿所述塑封层,暴露出所述胶合层。

15.如权利要求14所述的器件封装结构,其特征在于,所述器件封装结构还包括:填充层,所述填充层填满所述应力释放开口。

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