[发明专利]一种多元醇硼酸酯络合物硼扩散源及其制备方法在审
申请号: | 201810027331.2 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN108257857A | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 仝华;孙辛杰;杨云霞;袁双龙;袁晓;赵画 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 |
主分类号: | H01L21/22 | 分类号: | H01L21/22;H01L21/228 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200237 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多元醇 硼扩散 硼源 络合物 硼酸酯 硼酸 溶剂 旋涂 制程 制备 醇和硼酸 质量百分比 材料成本 澄清溶液 二元醇醚 方块电阻 合成条件 络合作用 停止加热 种多元醇 电阻率 | ||
1.一种多元醇硼酸酯络合物硼扩散源及其制备方法,其特征在于硼源由多元醇和硼酸形成的络合物以及二元醇醚类溶剂组成,其制备方法是:按设定的硼浓度和n(多元醇/硼酸)称取硼酸、多元醇和溶剂,先将硼酸倒入溶剂中加热搅拌,待其溶解后再将多元醇加入溶液中继续加热搅拌,随后停止加热并继续搅拌至室温。
2.根据权利要求1所述的硼源的制备方法,其特征在于所述多元醇为脱水的葡萄糖、甘露醇和山梨醇。
3.根据权利要求1和2所述的液态硼源的制备方法,其特征在于多元醇和硼酸的摩尔比为0-0.5。
4.根据权利要求1所述的液态硼源的制备方法,其特征在于所述溶剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、乙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯等二元醇醚类溶剂。
5.根据权利要求1和4所述的液态硼源的制备方法,其特征在于硼酸在溶剂中的质量百分浓度为1-10wt%。
6.根据权利要求1所述的液态硼源的制备方法,其特征在于加热搅拌的温度为60-90℃。
7.权利要求1和所述的液态硼源及的制备方法,其特征在于反应加料顺序为先硼酸后多元醇。
8.根据权利要求1和7所述的液态硼源的制备方法,其特征在于加入多元醇后的加热搅拌时间为0.5-1h。
9.根据权利要求1所述的液态硼源的制备方法,其特征在于停止加热后需继续搅拌0.5-1h至室温。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造