[发明专利]光谱装置和制造光谱装置的方法有效

专利信息
申请号: 201780093195.0 申请日: 2017-07-19
公开(公告)号: CN110914655B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: S·巴塞洛;A·罗卡斯 申请(专利权)人: 惠普发展公司;有限责任合伙企业
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28
代理公司: 北京市汉坤律师事务所 11602 代理人: 魏小薇;吴丽丽
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光谱 装置 制造 方法
【说明书】:

提供了一种光谱装置。光谱装置包括在基底上的多个设计组。每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在设计组的边缘处的钉扎。每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构,并且每个柔性立柱状结构包括金属帽。

技术领域

本公开大体上涉及包括设计组的光谱装置。

背景技术

传感器可以被构造成基于由纳米级金属粒子的等离子体共振产生的强局部电场。一种类型的传感器使用被纳米级窄间隙分隔的相邻金属纳米粒子的等离子体共振。纳米级间隙是由包括金属帽的柔性纳米柱倒塌成倒塌组产生的。柔性纳米柱的倒塌是由蒸发流体的微毛细管力引起的。为了增强倒塌的可靠性,柱是由高纵横比柱制成的,这会给制造和材料带来挑战。因此,需要用于控制倒塌的增强技术。

发明内容

根据第一方面,本公开提供一种光谱装置,包括分析芯片,所述分析芯片包括在基底上的多个设计组,其中:每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎;每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构;并且每个柔性立柱状结构包括金属帽。

根据第二方面,本公开提供一种制造光谱装置的方法,包括:在基底上形成多个设计组,其中,每个设计组包括形成在所述基底上的多个柔性立柱状结构,并且其中,每个设计组的边缘被成形为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎;在所述光谱装置上形成金属涂层,其中,所述金属涂层在所述多个柔性立柱状结构中的每个柔性立柱状结构的顶表面上形成帽;将流体放置在所述光谱装置上;以及使所述流体蒸发,其中,所述流体的蒸发施加微毛细管压力,所述微毛细管压力将所述多个柔性立柱状结构拉到一起形成多个倒塌组,其中,每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构,并且其中,所述钉扎在所述蒸发过程中增加所述设计组内的微毛细管压力。

根据第三方面,本公开提供一种用于表面增强发光的光谱装置,所述光谱装置包括在基底上的多个设计组,其中:每个设计组包括多个倒塌组;每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构;每个柔性立柱状结构包括金属帽;并且基底的裸露区域将每个设计组分隔;以及其中,设计组包括以三角形样式布置的多个倒塌组,其中,所述三角形样式被裸露区域包围。

附图说明

在以下详细描述中参照附图描述了某些示例性实施例。

图1是基底支撑用于形成柔性纳米柱的立柱层的示例的图。

图2是形成在基底上的柔性纳米柱的两个设计组的示例的图。

图3是金属层沉积在柔性纳米柱和基底上从而在每个柔性纳米柱的顶部形成金属帽的示例的图。

图4是使设计组上的流体蒸发的示例的示意图,示出了设计组的边缘处的溶剂钉扎的效果。

图5是每个设计组中的倒塌组的示例的图。

图6是控制倒塌组形成的溶剂钉扎的示例的显微照片。

图7(A)至图7(C)是可以在流体蒸发过程中增加纳米柱的倒塌的设计组的潜在布局的示例的图。

图8(A)和图8(B)是可以在流体蒸发过程中增加柱倒塌的结合式设计组的示例的图。

图9是用于形成包括图案化成设计组的倒塌组的光谱装置的方法的示例的流程图。

图10是在光谱分析中使用包含设计组的光谱装置的示例的示意图。

具体实施方式

先前的研究已经确定,可以通过倒塌成组(在本文被称为倒塌组)的有金属帽的聚合物轴(在本文被称为纳米柱)来获得表面增强亮度的明显增强。增强是基于由倒塌纳米柱的顶部处的相邻金属帽的等离子体共振产生的强烈局部电场,所述纳米柱被纳米级窄间隙分隔。倒塌是由蒸发流体的微毛细管力引起的。为了确保可靠的倒塌,柱是由高纵横比的柱制成的,这会给制造和材料带来挑战。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普发展公司,有限责任合伙企业,未经惠普发展公司,有限责任合伙企业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780093195.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top