[发明专利]光谱装置和制造光谱装置的方法

权利要求书

1.一种光谱装置，包括分析芯片，所述分析芯片包括在基底上的多个设计组，其中：

每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组，其中，每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎；

每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构；并且

每个柔性立柱状结构包括金属帽。

2.如权利要求1所述的光谱装置，其中，设计组包括以圆形样式布置的多个倒塌组，其中，所述圆形样式被裸露区域包围。

3.如权利要求1所述的光谱装置，其中，设计组包括以三角形样式布置的多个倒塌组，其中，所述三角形样式被裸露区域包围。

4.如权利要求1所述的光谱装置，其中，设计组包括以正方形样式布置的多个倒塌组，其中，所述正方形样式被裸露区域包围。

5.如权利要求1所述的光谱装置，其中，所述金属帽包含金、铜、铝、或银、或其任何组合。

6.如权利要求1所述的光谱装置，包括分光光度计，所述分光光度计被配置为将电磁辐射的激发束引导到所述分析芯片上，并检测从所述分析芯片发射的电磁辐射束。

7.如权利要求6所述的光谱装置，其中，所述分光光度计包括表面增强拉曼分光光度计。

8.如权利要求6所述的光谱装置，其中，所述分光光度计包括荧光计或红外分光光度计。

9.一种制造光谱装置的方法，包括：

在基底上形成多个设计组，其中，每个设计组包括形成在所述基底上的多个柔性立柱状结构，并且其中，每个设计组的边缘被成形为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎；

在所述光谱装置上形成金属涂层，其中，所述金属涂层在所述多个柔性立柱状结构中的每个柔性立柱状结构的顶表面上形成帽；

将流体放置在所述光谱装置上；以及

使所述流体蒸发，其中，所述流体的蒸发施加微毛细管压力，所述微毛细管压力将所述多个柔性立柱状结构拉到一起形成多个倒塌组，其中，每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构，并且其中，所述钉扎在所述蒸发过程中增加所述设计组内的微毛细管压力。

10.如权利要求9所述的方法，包括布置所述多个设计组以在设计组的边缘处触发溶剂钉扎。

11.如权利要求9所述的方法，包括控制基底的裸露区域与所述多个设计组所覆盖的区域之比，以控制溶剂钉扎。

12.如权利要求9所述的方法，包括至少部分地基于裸露区域的自由能来选择所述流体以控制溶剂钉扎。

13.如权利要求9所述的方法，包括在将所述流体放置在所述光谱装置上之前，将分析物分子添加至所述流体。

14.一种用于表面增强发光的光谱装置，所述光谱装置包括在基底上的多个设计组，其中：

每个设计组包括多个倒塌组；

每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构；

每个柔性立柱状结构包括金属帽；并且

基底的裸露区域将每个设计组分隔；以及

其中，每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎。

15.如权利要求14所述的光谱装置，其中，每个倒塌组包括五个柔性立柱状结构。