[发明专利]光动力学的治疗用光照射装置在审
| 申请号： | 201780092288.1 | 申请日： | 2017-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110769895A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 森田明理;益田秀之;木村诚;井口胜次;森淳 | 申请（专利权）人： | 公立大学法人名古屋市立大学;优志旺电机株式会社;夏普株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/06 | 分类号： | A61N5/06 |
| 代理公司： | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 被照射面 光照射装置 光动力学 光源部 波长 出射 治疗 峰值波长 柔性基板 照射波长 均匀性 荧光板 照射光 分光 照度 转换 配置 | ||
1.一种光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，具备：
光源部，在柔性基板上配置有一个以上的LED元件而成，该一个以上的LED元件出射在波长400nm以上且420nm以下的范围具有峰值波长的第一光；以及
荧光板，使来自所述光源部的第一光中的一部分透过，并且将另一部分转换为波长500nm以上且520nm以下的第二光并出射。
2.根据权利要求1所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
所述光源部具有多个所述LED元件。
3.根据权利要求1所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
所述荧光板被配置为，所述第一光与所述第二光在被照射面上重叠。
4.根据权利要求1所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
从所述荧光板向被照射面照射的光，在将该被照射面上的波长350nm以上且455nm以下的范围的光的放射照度积分值设为IA、将该被照射面上的超过455nm且为650nm以下的范围的光的放射照度积分值设为IB时，满足下述式(1)，
式(1) IA/IB＝0.2～5。
5.根据权利要求4所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
在所述式(1)中，IA/IB＝1～1.8。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
所述光源部具有壁材和保护树脂层，该壁材形成为包围在所述柔性基板上配置有所述LED元件的区域，该保护树脂层形成为在被该壁材包围的配置有所述LED元件的区域覆盖该LED元件，
所述荧光板被配置为覆盖所述保护树脂层以及壁材的上表面。
7.根据权利要求6所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
以覆盖至少所述荧光板的方式设置接触被照射面的具有透明性的接触部件。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光动力学的治疗用光照射装置，其特征在于，
所述荧光板作为荧光体含有Ba2SiO4：Eu。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于公立大学法人名古屋市立大学;优志旺电机株式会社;夏普株式会社，未经公立大学法人名古屋市立大学;优志旺电机株式会社;夏普株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
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