[发明专利]杂环FXR调节剂

权利要求书

1.根据式I的化合物：

其立体异构体和/或盐；其中

W为

X为取代或未取代的芳基或杂芳基基团；

Y为取代或未取代的苯基或吡啶基基团；

Z为CH或N；

R¹和R²独立地为H、OH、卤素、CN、羧基、NR^aR^b或取代或未取代的烷基、烷氧基或羟基烷基基团；

R³为取代或未取代的烷基或环烷基基团；

R⁴为CN、SO₃H、CONR^aR^b、SO₂NR^aR^b、NHSO₂R^b、SO₂NHCOR^a、CO₂R^c或取代或未取代的四唑基或1,2,4-噁二唑-5(4H)-酮-3-基基团；

R⁵为H、F、Cl、Br、I、CO₂R^g、CF₃、CN、NR^gR^h、OR^g或取代或未取代的烷基基团；

R⁶为H、卤素、CO₂R^g、CF₃、CN、NR^gR^h、OR^g或取代或未取代的烷基基团；

R¹⁰在每次出现时独立地为卤素或取代或未取代的烷基、烷氧基、环烷基或氟代环烷基基团；

R^a在每次出现时独立地为H或取代或未取代的烷基、卤代烷基、环烷基、芳基、亚烷基-R^d或SO₂-烷基基团；

R^b在每次出现时为H或取代或未取代的烷基或卤代烷基基团；

R^c为H或取代或未取代的烷基、烯基、炔基或环烷基基团；

R^d为CO₂H、OH或SO₃H；

R^g和R^h在每次出现时独立地为H或取代或未取代的C₁-C₆烷基基团；

n为0、1、2、3或4；

r为1、2或3；

q为0、1、2或3，

条件是：

当q为0或1时，则R⁵和R⁶中的至少一个不是H或n为至少1；和

当r+q为至少3时，则R⁵不是F。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中q为0。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其中r为1。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中W为

5.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中W为

6.根据权利要求1至3或权利要求5中任一项所述的化合物，其中Z为CH。

7.根据权利要求1至3或权利要求5中任一项所述的化合物，其中Z为N。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的化合物，其中W为