[发明专利]用于检测偏转的方法、扫描设备以及阻挡装置用于检测偏转的用途有效
申请号: | 201780063322.2 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN109844525B | 公开(公告)日: | 2020-03-10 |
发明(设计)人: | 陈世钦;刘长远;A·A·赫尔斯特罗姆 | 申请(专利权)人: | ABB瑞士股份有限公司 |
主分类号: | G01N33/34 | 分类号: | G01N33/34 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 检测 偏转 方法 扫描 设备 以及 阻挡 装置 用途 | ||
提供一种用于检测扫描设备中的源模块与检测模块之间的偏转或相对偏转的方法,其中源模块和检测模块被配置为传感器对,该传感器对用于扫描片材的传输测量,该片材在机器方向上被输送通过源模块与检测模块之间形成的感测间隔。源模块被布置在感测间隔的第一侧上以及朝向感测间隔发射感测辐射或感测能量辐射,并且检测模块被布置在感测间隔的与第一侧相对的第二侧上以及检测来自源模块并且通过感测间隔传输的辐射。该方法包括:将可去除的阻挡装置附接到检测模块,使得阻挡装置的辐射阻挡区域以不对称的方式部分地阻挡照射到检测模块的检测模块孔上的辐射的横截面区域的子区域;以及执行部分阻挡扫描过程,在该部分阻挡扫描过程期间,源模块和检测模块在扫描设备的横向方向上共同移动,源模块发射辐射并且检测模块检测已经通过感测间隔传输的来自源模块的辐射,由此与由辐射阻挡区域覆盖的子区域相对应的辐射的选择部分被阻挡以免由检测模块孔检测到,从而从由检测模块检测的辐射获得部分阻挡传感器信号。
技术领域
本申请涉及一种用于检测扫描设备的偏转的方法,以及阻挡装置用于检测偏转的用途,并且具体地,涉及用于检测扫描设备中的被配置为用于扫描在机器方向上被输送通过源模块与检测模块之间形成的感测间隔的片材的传输测量的传感器对的源模块与检测模块之间的偏转的方法、被配置用于扫描在机器方向上被输送通过扫描设备的感测间隔的片材的传输测量的扫描设备、以及阻挡装置用于检测被配置为用于根据从部分阻挡扫描过程获得的部分阻挡传感器信号扫描在机器方向上被输送通过扫描设备的源模块和检测模块之间形成的感测间隔的片材的传输测量的扫描设备的偏转的用途。
背景技术
对于大多数片材制造工艺,在线质量测量和控制系统(QCS)是用于实现预期片材质量并优化生产量的设备。在QCS中,感兴趣的机械部件之一是允许多个在线片材质量测量传感器安装在其上的扫描设备100。扫描设备100通常被构造为矩形结构,其中顶梁112和底梁114由两个端柱116、118支撑,如图1所示。片材80可以行进通过顶梁112与底梁114之间的开放空间。
在线片材质量测量传感器通常包括两个模块,包括源的一个模块130安装在在一个梁114上可移动的托架330上,并且包括检测器的另一个模块140安装在在另一个梁112上可移动的另一个托架340上。在生产期间,片材80或连续生产的片材80因此在两个传感器模块130、140之间行进,传感器模块130、140分别由顶托架和底托架330、340承载。通常,恒定源信号从源模块130通过移动片材80传输,并且由检测模块140检测。检测信号的变化可以用于确定片材质量变化。在该设置中,顶托架和底托架330、340被同步并且在横向方向CD上共同地来回移动,以用于在片材边缘81、82之间的扫描50,同时片材移动通过源模块130与检测模块140之间的感测间隔150。系统400从检测模块140和托架移动位置获取检测到的信号,以根据横向方向CD位置来建立扫描测量401。扫描测量401还可以被称为轮廓。
为了实现高精度的片材质量测量,可以确保源模块130和检测模块140当它们在横向方向CD上来回移动50时准确对准,并且例如执行正向扫描51和/或反向扫描52。源模块130与检测模块140之间的对准可以通过多种方式获得。例如,机械刻度盘指示器或磁对准传感器可以安装在顶托架和底托架330、340上,以检测顶托架与底部托架330、340之间和/或源模块130与检测模块140之间的未对准,也称为偏转D。检测到的偏转D可以用于诊断扫描设备100的机械部件或操作的状况,例如,以控制托架移动,和/或以补偿偏转对传感器测量的影响。
然而,在实践中,机械刻度盘指示器体积大、易碎且难以安装,并且将磁对准传感器加入到现有扫描设备100可能不仅是简单的升级。加入例如霍尔效应传感器或其等效物的新的磁对准传感器通常涉及对扫描设备100的各种程度的机械改变和/或对于较旧的QCS系统可能可行或甚至可能不可行的重要软件变化。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ABB瑞士股份有限公司,未经ABB瑞士股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780063322.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。