[发明专利]用于真空腔室的门密封件

权利要求书

1.一种真空腔室，包括：

腔室主体，所述腔室主体具有顶部、底部和侧壁，所述侧壁具有至少形成在其中的第一狭缝阀开口；

第一可充气密封件，所述第一可充气密封件密封地耦接至所述侧壁并包围所述第一狭缝阀开口；和

第一狭缝阀门，所述第一狭缝阀门可在接触所述第一可充气密封件以在所述第一狭缝阀门与所述腔室主体之间提供真空密封的关闭状态与使所述第一狭缝阀门脱离所述第一狭缝阀开口的打开状态之间移动，所述第一可充气密封件具有耦接至所述侧壁的基部和在所述第一狭缝阀门处于所述关闭状态时可相对于所述基部侧向地移动的中空管状部分。

2.如权利要求1所述的真空腔室，进一步包括：

密封夹，所述密封夹将所述第一可充气密封件的所述基部密封地夹持到所述腔室主体。

3.如权利要求2所述的真空腔室，其中所述腔室主体的所述侧壁进一步包括：

凹槽，所述凹槽接收所述密封夹。

4.如权利要求2所述的真空腔室，其中所述密封夹包括：

凹陷部分，所述凹陷部分具有孔隙，所述第一可充气密封件的颈部延伸穿过所述孔隙，所述颈部将所述基部耦接至所述中空管状部分。

5.如权利要求1所述的真空腔室，其中所述中空管状部分被配置为在所述第一可充气密封件处于充气状态时相对于所述基部侧向地滚动通过所述中空管状部分的直径的至少1.4％的距离。

6.如权利要求5所述的真空腔室，其中所述距离为至少1mm。

7.如权利要求4所述的真空腔室，其中所述第一可充气密封件包括：

导管，所述导管用于使所述第一可充气密封件充气，所述导管从所述基部延伸穿过形成在所述侧壁中的所述凹陷部分。

8.如权利要求1所述的真空腔室，进一步包括：

第二狭缝阀开口，所述第二狭缝阀开口穿过所述侧壁形成；

第二狭缝阀门，所述第二狭缝阀门可在关闭位置与打开位置之间移动，当处于所述打开位置时，所述第二狭缝阀门脱离所述第二狭缝阀开口；和

第二可充气密封件，所述第二可充气密封件经定位以在所述第二狭缝阀门处于所述关闭位置时密封所述第二狭缝阀开口。

9.如权利要求8所述的真空腔室，进一步包括：

压力控制系统，所述压力控制系统耦接至所述腔室主体，所述压力控制系统适于将所述腔室主体泵吸到真空状况和使所述腔室主体通风到大气状况。

10.如权利要求8所述的真空腔室，其中所述第一可充气密封件背对所述腔室主体的内部，并且所述第二可充气密封件面向所述腔室主体的所述内部。

11.如权利要求1所述的真空腔室，其中所述第一可充气密封件的所述中空管状部分具有小于约90肖氏A的硬度。