[发明专利]用于检测水肿的系统和方法

权利要求书

1.一种用于检测患者体内水肿的系统，所述系统包括：

光源，被配置用于利用光来照射患者的组织；

检测器，被配置用于收集来自所述患者组织的反射光并生成与所述反射光相关联的数据；以及

处理设备，可操作地连接到所述检测器并且被配置用于：

接收与所述反射光相关联的所述数据，

计算所述反射光的强度，并且

判定所述患者的组织是否表现出水肿症状。

2.如权利要求1所述的系统，其中，所述处理设备进一步被配置用于确定对照样本的对照测量结果。

3.如权利要求2所述的系统，其中，所述处理设备进一步被配置用于：

将所述反射光的所计算强度与所述对照测量结果进行比较；并且

确定所述患者的水肿得分，其中，所述水肿得分表示所述患者是否患有水肿和所述患者水肿的严重程度中的至少一项。

4.如权利要求1所述的系统，进一步包括：至少一个滤光器，被配置用于过滤所述反射光。

5.如权利要求4所述的系统，其中，所述至少一个滤光器是被配置用于过滤特定波长范围内的所述反射光的可调滤光器。

6.如权利要求4所述的系统，其中，所述至少一个滤光器是短波红外可调滤光器、法布里珀罗可调滤光器、多共轭晶体可调滤光器和共形滤光器中的至少一种。

7.如权利要求1所述的系统，进一步包括：多个可调滤光器。

8.如权利要求7所述的系统，其中，所述多个可调滤光器被配置用于将所述反射光过滤到900nm至1100nm、1150nm至1300nm和1400nm至1550nm中的至少一个波长范围。

9.如权利要求1所述的系统，其中，所述光源包括激光照明源、宽带光源和环境光源中的至少一种。

10.如权利要求1所述的系统，其中，所述检测器包括电荷耦合器件检测器、互补金属氧化物半导体检测器、砷化镓铟检测器和焦平面阵列检测器中的至少一种。

11.如权利要求1所述的系统，其中，所述处理器进一步被配置用于融合来自两种或更多种成像模式的强度数据。

12.如权利要求11所述的系统，其中，所述两种或更多种成像模式包括可见图像、高光谱图像、短波红外高光谱图像、中波红外高光谱图像、长波红外高光谱图像、以及它们的组合。

13.如权利要求1所述的系统，进一步包括：至少一个显示设备，可操作地连接到所述处理设备并且被配置用于显示从所述处理设备接收的一个或多个图像，所述一个或多个图像表示所述患者的组织。

14.一种用于检测患者体内水肿的方法，所述方法包括：

由光源利用光来照射患者的组织；

由检测器收集来自所述患者组织的反射光；

由所述检测器生成与所述反射光相关联的数据；

由可操作地连接到所述检测器的处理设备来接收所述反射光；

由所述处理设备计算所述反射光的强度；以及

由所述处理设备来判定所述患者的组织是否表现出水肿症状。

15.如权利要求14所述的方法，进一步包括：由所述处理设备确定对照样本的对照测量结果。

16.如权利要求15所述的方法，进一步包括：

由所述处理设备将所述反射光的所计算强度与所述对照测量结果进行比较；并且

由所述处理设备确定所述患者的水肿得分，其中，所述水肿得分表示所述患者是否患有水肿和所述患者水肿的严重程度中的至少一项。