[发明专利]二维光扫描镜装置及其制造方法、二维光扫描装置以及图像投影装置

权利要求书

1.一种二维光扫描镜装置，其具有：

基板；

可动镜部，其具有光扫描旋转轴，该可动镜部以能够进行二维光扫描的方式被支承在所述基板上；

硬质磁性薄膜，其设置于所述可动镜部；以及

磁场产生装置，其至少包含驱动所述可动镜部的交流磁场产生装置，

所述硬质磁性薄膜在膜平面方向上具有磁化方向，

所述磁场产生装置产生的磁场与所述硬质磁性薄膜的矫顽力的比为0.2以下，所述硬质磁性薄膜的矫顽力为100kA/m以上。

2.根据权利要求1所述的二维光扫描镜装置，其中，

所述硬质磁性薄膜为反射镜。

3.根据权利要求1所述的二维光扫描镜装置，其中，

该二维光扫描镜装置至少在所述硬质磁性薄膜的表面上具有作为反射镜的反射膜。

4.根据权利要求1所述的二维光扫描镜装置，其中，

所述硬质磁性薄膜的磁化方向相对于所述可动镜部的所述光扫描旋转轴为45°±30°的范围内的角度。

5.根据权利要求1所述的二维光扫描镜装置，其特征在于，

在不对所述交流磁场产生装置施加光扫描信号的状态下，所述可动镜部的反射面相对于所述基板的主面在45°±30°的范围内倾斜。

6.一种二维光扫描镜装置的制造方法，具有：

在基板上形成硬质磁性薄膜的工序；

对所述硬质磁性薄膜进行退火的工序；

对退火后的所述硬质磁性薄膜进行磁化的工序；以及

对磁化后的所述硬质磁性薄膜进行加工从而形成可动镜部的工序，

其中，所述硬质磁性薄膜在膜平面方向上具有磁化方向，

驱动所述可动镜部的磁场产生装置产生的磁场与所述硬质磁性薄膜的矫顽力的比为0.2以下，所述硬质磁性薄膜的矫顽力为100kA/m以上。

7.一种二维光扫描装置，其具有：

权利要求1所述的二维光扫描镜装置；以及

光源，其形成在所述基板上。

8.一种二维光扫描装置，其具有：

权利要求1所述的二维光扫描镜装置；

安装基板，所述二维光扫描镜装置安装于该安装基板；以及

光源，其安装在所述安装基板上的对所述二维光扫描镜装置照射激光束的位置。

9.一种图像投影装置，其具有：

权利要求7所述的二维光扫描装置；

二维光扫描控制部，对所述交流磁场产生装置施加二维光扫描信号，而对从所述光源射出的出射光二维地进行扫描；以及

图像形成部，其将所述扫描的所述出射光投射到被投影面上。

10.一种图像投影装置，其具有：

权利要求8所述的二维光扫描装置；

二维光扫描控制部，对所述交流磁场产生装置施加二维光扫描信号，而对从所述光源射出的出射光二维地进行扫描；以及

图像形成部，其将所述扫描的所述出射光投射到被投影面上。