[发明专利]弹性波装置及其制造方法

权利要求书

1.一种弹性波装置，具备：

压电基板；

第一IDT电极至第三IDT电极，设置在所述压电基板上；以及

电介质膜，设置在所述压电基板上，使得覆盖所述第一IDT电极至所述第三IDT电极，且覆盖所述第一IDT电极的区域的厚度与覆盖所述第二IDT电极以及所述第三IDT电极的区域的厚度不同，

构成有包含所述第一IDT电极至所述第三IDT电极以及所述电介质膜的第一弹性波元件至第三弹性波元件，

将如下的厚度设为密度换算厚度，该厚度为将分别构成所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的材料的密度全部设为相同的密度而进行换算的厚度，此时，所述第一IDT电极、所述第二IDT电极的所述密度换算厚度相等，所述第三IDT电极的所述密度换算厚度与所述第一IDT电极、所述第二IDT电极的所述密度换算厚度不同。

2.根据权利要求1所述的弹性波装置，其中，

所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的电极指间距相互不同。

3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置，其中，

将所述电介质膜的密度换算厚度设为如下的厚度，该厚度为将分别构成所述电介质膜以及所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的材料的密度全部设为相同的密度而进行换算的厚度，此时，位于所述第一IDT电极上的所述电介质膜的所述密度换算厚度与所述第一IDT电极的所述密度换算厚度的合计相对于所述第一IDT电极的电极指间距之比、位于所述第二IDT电极上的所述电介质膜的所述密度换算厚度与所述第二IDT电极的所述密度换算厚度的合计相对于所述第二IDT电极的电极指间距之比、以及位于所述第三IDT电极上的所述电介质膜的所述密度换算厚度与所述第三IDT电极的所述密度换算厚度的合计相对于所述第三IDT电极的电极指间距之比相互不同。

4.根据权利要求1或2所述的弹性波装置，其中，

所述第一弹性波元件至所述第三弹性波元件为第一弹性波滤波器至第三弹性波滤波器。

5.根据权利要求1或2所述的弹性波装置，其中，

构成所述第一IDT电极、所述第二IDT电极的材料与构成所述第三IDT电极的材料不同。

6.一种弹性波装置的制造方法，具备：

准备压电基板的工序；

在所述压电基板上设置第一IDT电极、第二IDT电极的工序；

在所述压电基板上设置第三IDT电极的工序；以及

在所述压电基板上设置电介质膜，使得覆盖所述第一IDT电极至所述第三IDT电极，且使得覆盖所述第一IDT电极的区域的厚度与覆盖所述第二IDT电极以及所述第三IDT电极的区域的厚度不同的工序，

构成包含所述第一IDT电极至所述第三IDT电极以及所述电介质膜的第一弹性波元件至第三弹性波元件，

在设置所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的工序中，将如下的厚度设为密度换算厚度，该厚度为将分别构成所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的材料的密度全部设为相同的密度而进行换算的厚度，此时，使所述第一IDT电极、所述第二IDT电极的所述密度换算厚度相等，使所述第三IDT电极的所述密度换算厚度与所述第一IDT电极、所述第二IDT电极的所述密度换算厚度不同。

7.根据权利要求6所述的弹性波装置的制造方法，其中，

在设置所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的工序中，使所述第一IDT电极至所述第三IDT电极的电极指间距相互不同。

8.根据权利要求6或7所述的弹性波装置的制造方法，其中，

在设置所述电介质膜的工序中，在设置由与所述电介质膜相同的电介质构成的第一电介质膜而使得覆盖所述第一IDT电极至所述第三IDT电极之后，在所述第一电介质膜上的、所述第一电介质膜覆盖所述第一IDT电极的区域层叠抗蚀剂层，并对所述第一电介质膜进行蚀刻。