[发明专利]新的稳定的甲硅烷基化试剂

权利要求书

1.一种组合物，通过预处理以下的混合物来制备：

(a)前体氢硅烷或有机乙硅烷；以及

(b)碱，所述碱包括硅醇钾、硅醇铷、硅醇铯、石墨钾(KC₈)或其组合；

其中所述组合物不含添加的能够C-H甲硅烷基化的杂芳香族基质、烯属基质或炔属基质；

其中所述前体氢硅烷具有式(I)或式(II)，或所述前体有机乙硅烷具有式(III)：

(R)_3-mSi(H)_m+1 (I)

(R)_3-m(H)_mSi-Si(R)_2-m(H)_m+1 (II)

(R’)₃Si-Si(R’)₃ (III)

其中：m独立地是0、1或2；并且每个R和R'独立地是任选地被取代的C_1-24烷基或杂烷基、任选地被取代的C_7-13芳烷基、任选地被取代的C_4-12杂芳烷基、任选地被取代的C_2-24烯基、任选地被取代的C_2-24炔基、任选地被取代的C_6-12芳基、任选地被取代的C_3-12杂芳基、任选地被取代的C_7-13烷芳基、或任选地被取代的C_4-12杂烷芳基，并且如果被取代，取代基独立地是C₁-C₂₀烷氧基、C₅-C₂₀芳氧基、硝基、氰基或卤素；并且

其中所述预处理包括将所述前体氢硅烷或所述有机乙硅烷和所述碱的所述混合物保持在足以产生所述组合物的条件下，所述组合物能够在45℃或更低的温度，以小于30分钟、小于25分钟、小于20分钟、小于15分钟、小于10分钟、小于5分钟或小于1分钟的诱导期引发1-甲基吲哚的可测量的甲硅烷基化。

2.如权利要求1所述的组合物，包含衍生自以下的预处理反应的基于Si-H的物质：所述预处理反应是在

(a)具有式(I)的前体氢硅烷；和

(b)碱，所述碱包括硅醇钾、硅醇铷、硅醇铯、石墨钾(KC₈)或其组合

之间的权利要求1所述的预处理反应；

其中所述前体氢硅烷表现出在红外光谱的Si-H伸缩区中的吸收峰，并且当在可比较的条件下评估时，所述基于Si-H的物质表现出具有低于所述前体氢硅烷的吸收峰的能量的、在红外光谱的Si-H伸缩区中的吸收峰。

3.如权利要求1所述的组合物，其中所述组合物还包含溶剂。

4.如权利要求3所述的组合物，其中所述溶剂是四氢呋喃或2-甲基四氢呋喃。

5.如权利要求1所述的组合物，其中所述碱包括硅醇钾、硅醇铷或硅醇铯。

6.如权利要求1所述的组合物，其中所述碱包括石墨钾。