[实用新型]质谱系统有效
| 申请号： | 201721801756.1 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN207752965U | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | N·T·莫利森;J·A·卡雷拉;J·T·梅兹;S·T·夸姆比 | 申请（专利权）人： | 萨默费尼根有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/26 | 分类号： | H01J49/26;H01J49/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈洁;姬利永 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子光学 堆栈 中心纵向轴线 对准 圆形透镜 孔口 目标呈现 目标定位 同心的 界定 种质 观察 统一 | ||
1.一种质谱系统，包括：
界定中心纵向轴线的离子光学件堆栈，所述离子光学件堆栈包含：
具有第一直径的圆形透镜孔口；以及
具有第二直径的圆形对准目标，所述第二直径小于所述第一直径，
其中所述圆形对准目标定位成使得当所述离子光学件堆栈对准时，肉眼观察者沿着所述离子光学件堆栈的所述中心纵向轴线观察时所述圆形透镜孔口和圆形对准目标呈现为同心的。
2.根据权利要求1所述的质谱系统，其中所述对准目标是所述质谱系统的内表面上的圆形标记。
3.根据权利要求1所述的质谱系统，其中所述圆形透镜孔口和所述圆形对准目标具有不小于50％的内圆百分比。
4.根据权利要求3所述的质谱系统，其中所述内圆百分比不小于80％。
5.根据权利要求1所述的质谱系统，其中当所述离子光学件堆栈对准时，所述圆形透镜孔口和所述圆形对准目标具有不小于0.4的偏移率。
6.根据权利要求5所述的质谱系统，其中，对准时的所述偏移率不小于1.2。
7.根据权利要求1所述的质谱系统，其中，当所述离子光学件堆栈对准时，所述圆形透镜孔口和所述圆形对准目标具有不小于4的间隙偏移率。
8.根据权利要求7所述的质谱系统，其中，对准时的所述间隙偏移率不小于6。
9.根据权利要求1所述的质谱系统，其中所述离子光学件堆栈进一步包含第二透镜孔口，且当所述离子光学件堆栈对准时，沿着所述离子光学件堆栈观察时所述圆形透镜孔口、所述第二透镜孔口和所述圆形对准目标呈现为同心的。
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