[实用新型]一种新型的晶片抛光机修整环装置有效

专利信息
申请号: 201721774521.8 申请日: 2017-12-19
公开(公告)号: CN207841071U 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 张韬杰;杭伟;刘敏;曹霖霖;吕冰海;邓乾发;黄晟 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B24B53/12 分类号: B24B53/12
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 王利强
地址: 310014 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 修整器 晶片抛光机 驱动电机 修整环 滑槽 滑块 内圈 本实用新型 内齿轮形 抛光盘 输出轴 限位架 支撑板 基盘 联动 修正 保证
【权利要求书】:

1.一种新型的晶片抛光机修整环装置,其特征在于:包括修整器、传动机构和驱动电机,所述修整器放在旋转基盘上,修整器上部分的两端有滑槽,所述滑槽接有滑块,所述滑块安装于限位架,所述修整器内圈上部分为内齿轮形;所述驱动电机安装于支撑板上,所述驱动电机的输出轴通过传动机构与所述修整器内圈联动。

2.如权利要求1所述的一种新型的晶片抛光机修整环装置,其特征在于:所述传动机构包括主动带轮、传送带和被动带轮,所述驱动电机为步进电机,所述步进电机的输出轴上安装主动带轮,传送带连接在所述主动带轮和被动带轮上,所述被动带轮与齿轮同轴设置,所述齿轮与所述修整器内圈啮合。

3.如权利要求1或2所述的一种新型的晶片抛光机修整环装置,其特征在于:所述修整器中,在内圈和外圈之间安装有滚子,内圈的下半部分和外圈底部安装有球。

4.如权利要求2所述的一种新型的晶片抛光机修整环装置,其特征在于:所述传送带为同步带。

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