[实用新型]一种纳米材料制作设备

说明书

一种纳米材料制作设备，包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱及出油口连通。通过硅油带动纳米材料沿基材台的表面淌下，在沉淀箱中实现纳米材料的沉淀，可高效分离出纳米材料、扩展了用途。

技术领域

本实用新型涉及材料领域，特别是一种纳米材料制作设备。

背景技术

溅射法制作纳米材料的方式有：磁控溅射、偏压溅射及反应溅射等。其中磁控溅射的原理为：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动。

目前，磁控溅射制作纳米材料只能用来对放置在基材上的物体进行镀膜，具有成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜等优势。无法分离出纳米材料以作其他用途。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种可高效分离出纳米材料、扩展了用途的纳米材料制作设备，以解决上述问题。

一种纳米材料制作设备，包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱及出油口连通。

进一步地，所述油箱与沉淀箱之间通过回收管连通。

进一步地，所述基材台的形状为三菱锥、多菱锥、圆锥或三菱柱。

进一步地，所述靶座的形状与基材台相适应，其任一侧面与基材台最接近的侧面保持平行且间隔设置。

进一步地，所述设备主体中具有多个沉淀箱，所述油箱设置于多个沉淀箱之间。

进一步地，在基材台与沉淀箱之间还设有集斗，所述集斗的尺寸大于基材台的底部尺寸。

进一步地，所述集斗的上部设有较大的开口朝向基材台，所述集斗的下部设有开口通向沉淀箱。

进一步地，所述基材台与靶座之间通有氩气。

与现有技术相比，本实用新型的纳米材料制作设备通过硅油从基材台140顶部流下，带动纳米材料沿基材台140的表面淌下，在沉淀箱130实现纳米材料的沉淀，可高效分离出纳米材料、扩展了用途。

附图说明

以下结合附图描述本实用新型的实施例，其中：

图1为本实用新型实施例的纳米材料制作设备的侧面示意图。

图2为图1沿A-A线的剖视图。

图3为本实用新型实施例的纳米材料制作设备工作的流程示意图。

具体实施方式

以下基于附图对本实用新型的具体实施例进行进一步详细说明。应当理解的是，此处对本实用新型实施例的说明并不用于限定本实用新型的保护范围。

请参考图1，其为本实用新型实施例提供的纳米材料制作设备的侧面示意图。

本实用新型实施例提供的纳米材料制作设备包括设备主体100及泵200。