[实用新型]一种纳米材料制作设备有效
| 申请号： | 201721646230.0 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN207552436U | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 毕凯 | 申请（专利权）人： | 嘉兴岱源真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 姚海波 |
| 地址： | 314100 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米材料 基材 沉淀箱 油箱 设备主体 制作设备 出油口 靶座 硅油 高效分离 磁控靶 泵管 连通 沉淀 外部 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米材料制作设备，其特征在于：所述纳米材料制作设备包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱及出油口连通。
2.如权利要求1所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述油箱与沉淀箱之间通过回收管连通。
3.如权利要求1所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述基材台的形状为三菱锥、多菱锥、圆锥或三菱柱。
4.如权利要求3所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述靶座的形状与基材台相适应，其任一侧面与基材台最接近的侧面保持平行且间隔设置。
5.如权利要求1所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述设备主体中具有多个沉淀箱，所述油箱设置于多个沉淀箱之间。
6.如权利要求1所述的纳米材料制作设备，其特征在于：在基材台与沉淀箱之间还设有集斗，所述集斗的尺寸大于基材台的底部尺寸。
7.如权利要求6所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述集斗的上部设有较大的开口朝向基材台，所述集斗的下部设有开口通向沉淀箱。
8.如权利要求6所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述基材台与靶座之间通有氩气。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴岱源真空科技有限公司，未经嘉兴岱源真空科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721646230.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种间隙控制装置、工件清洗设备及真空镀膜设备
- 下一篇：一种靶材部件及平面靶
- 同类专利
- 专利分类
