[实用新型]一种电磁自热式煎烤盘

权利要求书

1.一种电磁自热式煎烤盘，其特征在于，包括一个长方形盘体、以及支撑盘体的盘架；所述盘体安装在盘架上，盘体上设有用于连通盘体正反面的排油孔；

所述盘架上还设有电磁励磁驱动装置、半圆形调味箱、以及用于接收排油孔排出的油的集油盘；所述电磁励磁驱动装置设置在盘架的左侧位置；所述半圆形调味箱设置在盘架的右侧位置；所述集油盘设置在盘架的底部位置；

所述盘体内部采用复合层结构，并由不锈钢复合材料制成，包括中空的腔室、以及由内而外依次复合的不锈钢层、喷砂层和纳米陶瓷层；所述腔室位于盘体中部，由纯铝制成，其上下表面设置不锈钢层，所述不锈钢层的外侧设置喷砂层，所述喷砂层的外侧设置纳米陶瓷层；所述腔室内设有两组方形励磁线圈、设置在励磁线圈之间的热电偶、以及用于填充腔室的耐高温的绝缘导热材料；所述励磁线圈分别位于盘体的左右两侧，并与电磁励磁驱动装置电连接，所述热电偶位于两励磁线圈之间。

2.根据权利要求1所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述盘体的正面和背面均设有用于加热食物的区域，分别为位于盘体正面的烧烤区和背面的煎烤区；所述烧烤区和煎烤区边缘均设有向上凸起的围边，烧烤区的围边高度大于煎烤区的围边高度；

所述烧烤区设为横向外拱的拱形弧面区域，其拱形弧面区域的高度为5mm，拱形弧面区域的四周环绕设置有汇集油脂的环形浅槽；所述环形浅槽的槽宽为4mm～8mm；

所述煎烤区设为横向内凹的凹陷形弧面区域，所述煎烤区的凹陷形弧面区域与烧烤区的拱形弧面形成互补，其深度为5mm，所述煎烤区的四周环绕设置有防止油脂溢出的矩形台边，所述矩形台边的边宽为7mm。

3.根据权利要求1所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述盘体长度为40mm～50mm、宽度为20mm～30mm、高度为15mm～20mm。

4.根据权利要求2所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述烧烤区的拱形弧面区域上设有若干横向间隔设置的凸纹，所述凸纹沿拱形弧面区域表面均匀分布，所述凸纹的高度为2mm、宽度为3.5mm；相邻所述凸纹之间设有用于烧烤物油脂流通及减少烧烤物与盘体接触面积的拱形浅槽，所述拱形浅槽设置方向与凸纹方向一致。

5.根据权利要求4所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述凸纹设为条状结构，或者设为连续的虚线结构、点线结构，数量设为20条～30条。

6.根据权利要求2所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述盘体在位于盘体纵轴中心线上的环形浅槽中设有连通盘体的正面和背面并用于供烧烤产生油脂排出盘体外的排油孔；所述矩形台边设有使拱形弧面区域与排油孔相通的缺口，所述缺口设置在靠近排油孔的位置。

7.根据权利要求6所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述排油孔设为带圆导角的矩形孔，其长度为12mm、宽度为5mm。

8.根据权利要求2所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述围边包括长度方向的长围边和宽度方向的宽围边；所述宽围边的高度大于长围边的高度，且所述宽围边上设有若干方便电磁自热式煎烤盘与烧烤匹配安置的定位槽，所述长围边上设有四个用于将盘体吊起的吊孔。

9.根据权利要求1所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述纳米陶瓷层的厚度为30μm～60μm之间；所述腔室高度为8mm～10mm。

10.根据权利要求1所述的电磁自热式煎烤盘，其特征在于，所述绝缘导热材料耐温温度为250度以上。