[实用新型]一种蒸镀设备

说明书

本实用新型公开了一种蒸镀设备，包括蒸发腔室，用于蒸镀基片，所述基片置于所述蒸发腔室内，所述蒸发腔室内还设有磁性掩模版、磁性压合装置、基片载体、坩埚和多扎线圈。磁性压合装置安置在蒸发腔室内基片上方，用以压合基片和磁性掩模版，并产生一个方向固定，大小不变的磁场，对磁性掩模版进行吸附，阻止掩模版因自身重量等原因的下垂；蒸发腔室内竖直向螺旋缠绕有多扎线圈，通正向电流时，能够产生与磁性压合装置相同的磁场，当具有磁矩的自由分子蒸发上升时，线圈磁场和磁性压合装置产生的双重磁场对其磁矩方向进行调控定向，使分子以相同的方向落于基片，改善成膜，提高器件性能与寿命。

技术领域

本实用新型涉及OLED器件制造技术领域，具体涉及一种蒸镀设备。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)具有自发光、发光效率高、功耗低、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为在照明和显示器件市场上具有广阔的应用前景，受到了国际光电学术界和产业界的高度重视，使用蒸镀的方法制备OLED器件是目前常用的制备方法。

蒸镀设备在使用掩模版时，由于掩模版自身重力等因素，导致掩模版下垂，掩模效果不理想。并且设备中压合装置从压合状态分离时，稍显困难并对装置有所损耗。使用真空蒸镀的方法制备OLED器件，虽然在蒸镀沉积有机功能层的过程中蒸发腔室具有高真空度和洁净的环境，但是分子取向依旧杂乱无章，而且高温蒸发出的分子不规则运动以及分子间的碰撞和各种作用力使其落到基片表面时薄膜成膜并不均匀，结晶较差，阻碍载流子在薄膜内的传输，导致薄膜迁移率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于解决现有技术中掩模版与基片间贴合力不足、磁性分子取向杂乱无章、薄膜成膜不均匀等问题，进而提供一种蒸镀效果好、蒸镀成品率高且故障率小的新型蒸镀设备。

本实用新型采用的技术方案如下：

一种蒸镀设备，包括蒸发腔室，用于蒸镀基片，所述基片置于所述蒸发腔室内，其特征在于，所述蒸发腔室内还设有：

磁性掩模版，用于确定所述基片蒸镀的图形；

磁性压合装置，用于压合所述基片和磁性掩模版，并对所述磁性掩模版进行吸附以防止其变形；

基片载体，其为非磁性载体，用于承载待蒸镀的所述基片和磁性掩模版；

坩埚，位于所述蒸发腔室内，其与所述磁性压合装置分别设置于所述基片的两侧，用于提供热量，加热蒸发有机材料。

所述蒸发腔室内还设有多扎线圈，所述多扎线圈通电后所形成的磁力方向垂直作用于所述基片上，用于提供大小可控、方向可变的磁场。

所述多扎线圈位于所述磁性掩模版的下方，所述多扎线圈的上端高出所述基片所在水平位置，其下端贴近所述坩埚上沿所在的水平位置。

所述多扎线圈通电后所形成的磁力区域垂直作用于整个所述基片上。

所述磁性压合装置包括压合磁板和压合立柱，所述压合磁板置于所述基片上方，所述压合立柱的上端贯穿所述基片载体顶部且可上下移动，其下端与所述压合磁板固定连接，用于控制所述压合磁板的升降。

所述压合磁板的N极朝上、S极朝下；所述多扎线圈通正向电流时，其上端为N极，下端为S极。

所述压合磁板保持磁性的最高温度为150℃。

所述压合立柱上端穿过所述基片载体顶部中心，下端与所述压合磁板中心处固定连接。

所述坩埚呈等间距圆周排列布置。

所述多扎线圈通电后所形成的磁力区域将所述坩埚全部包围在内。

本实用新型相对于现有技术具有如下有益效果：