[实用新型]一种蒸镀设备

权利要求书

1.一种蒸镀设备，包括蒸发腔室，用于蒸镀基片(1)，所述基片(1)置于所述蒸发腔室内，其特征在于，所述蒸发腔室内还设有：

磁性掩模版(2)，用于确定所述基片(1)蒸镀的图形；

磁性压合装置(3)，用于压合所述基片(1)和磁性掩模版(2)，并对所述磁性掩模版(2)进行吸附以防止其变形；

基片载体(4)，其为非磁性载体，用于承载待蒸镀的所述基片(1)和磁性掩模版(2)；

坩埚(6)，位于所述蒸发腔室内，其与所述磁性压合装置(3)分别设置于所述基片(1)的两侧，用于提供热量，加热蒸发有机材料。

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸发腔室内还设有多扎线圈(5)，所述多扎线圈通电后所形成的磁力方向垂直作用于所述基片(1)上，用于提供大小可控、方向可变的磁场。

3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述多扎线圈(5)位于所述磁性掩模版(2)的下方，所述多扎线圈(5)的上端高出所述基片(1)所在水平位置，其下端贴近所述坩埚(6)上沿所在的水平位置。

4.根据权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述多扎线圈(5)通电后所形成的磁力区域垂直作用于整个所述基片(1)上。

5.根据权利要求2-4任一所述的蒸镀设备，其特征在于，所述磁性压合装置(3)包括压合磁板(31)和压合立柱(32)，所述压合磁板(31)置于所述基片(1)上方，所述压合立柱(32)的上端贯穿所述基片载体(4)顶部且可上下移动，其下端与所述压合磁板(31)固定连接，用于控制所述压合磁板(31)的升降。

6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述压合磁板(31)的N极朝上、S极朝下；所述多扎线圈(5)通正向电流时，其上端为N极，下端为S极。

7.根据权利要求6所述的蒸镀设备，其特征在于，所述压合磁板(31)保持磁性的最高温度为150℃。

8.根据权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于，所述压合立柱(32)上端穿过所述基片载体(4)顶部中心，下端与所述压合磁板(31)中心处固定连接。

9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚(6)呈等间距圆周排列布置。

10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，所述多扎线圈(5)通电后所形成的磁力区域将所述坩埚(6)全部包围在内。