[实用新型]研磨液供给单元及具备其的基板研磨装置有效
申请号: | 201721240939.0 | 申请日: | 2017-09-26 |
公开(公告)号: | CN207448235U | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 李昊俊;赵珳技 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健;陈国军 |
地址: | 韩国京畿道安城*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨垫 研磨液 研磨液供给单元 基板研磨装置 弹性支撑部 弹性加压 供给压力 供给部 上浮 | ||
1.一种基板研磨装置的研磨液供给单元,研磨液供给单元在基板研磨装置中用于将研磨液供应于研磨垫,所述基板研磨装置的研磨液供给单元包括:
外壳,其设置为下面从研磨垫表面上浮规定间隔;
研磨液供给部,其将研磨液供给于所述研磨垫,并且利用研磨液的供给压力,对所述外壳的下面和所述研磨垫之间的间隔进行调节;以及
弹性支撑部,其设置于所述外壳的上部,相对于所述研磨垫对所述外壳进行弹性加压。
2.根据权利要求1所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述研磨液供给部包括沿着所述外壳的长度方向形成的多个孔或狭缝。
3.根据权利要求2所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述研磨液供给部配置为至少一列以上。
4.根据权利要求2所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述研磨液供给部形成为供应研磨液的轨迹至少与基板的直径相同或更大。
5.根据权利要求2所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述外壳在下面沿着所述外壳的长度方向形成有规定深度的研磨液供给槽,
所述研磨液供给部形成于所述研磨液供给槽内部。
6.根据权利要求5所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述研磨液供给槽以相互平行的形式形成有多个,
在所述多个研磨液供给槽内部分别形成有研磨液供给部。
7.根据权利要求1所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述弹性支撑部包括:
弹性加压体,其设置于所述外壳的上部,使得所述外壳沿着相对于所述研磨垫加压的方向作用加压力;以及
位置调节部,其设置于所述弹性加压体的后方,使得所述弹性支撑部的位置移动,从而对所述弹性支撑部的加压力进行调节。
8.根据权利要求7所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述位置调节部使得所述外壳以与所述研磨垫相接近或相隔开的形式垂直移动。
9.根据权利要求1所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述外壳配置为在基板移动方向的前方与所述基板的直径方向平行。
10.根据权利要求1所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述外壳的下面形成为与所述研磨垫的表面相对应的平面。
11.根据权利要求1所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述外壳在一侧还设置有流动引导,流动引导对供给至所述外壳和所述研磨垫之间的所述研磨液的流动量进行调节。
12.根据权利要求11所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述流动引导在所述外壳沿着所述研磨垫的旋转方向设置于后方侧下端部。
13.根据权利要求11所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述流动引导在所述外壳沿着所述研磨垫的旋转方向设置于前方及后方侧下端部。
14.根据权利要求11所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述流动引导形成为端部与所述研磨垫相接触或相隔开一定间隔。
15.根据权利要求11所述的基板研磨装置的研磨液供给单元,其特征在于,
所述流动引导全部或至少端部的一部分由弹性及柔软性材质形成。
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