[实用新型]一种紫外LED芯片有效

专利信息
申请号: 201721230900.0 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN207529970U 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 何苗;杨思攀;赵韦人;王成民 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;H01L33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆宗力;王宝筠
地址: 510062 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 紫外发光二极管 紫外LED芯片 凹凸台面 电连接 衬底 刻蚀 反向并联连接 第二表面 反向电压 静电放电 静电释放 外部电极 外延结构 正向电压 接触层 抗静电 申请 打击
【权利要求书】:

1.一种紫外LED芯片,其特征在于,包括:

第一衬底;

位于所述第一衬底第一表面的PN结结构,所述PN结结构包括基于所述第一衬底第一表面上排列生长的外延结构,依次包括氮化硅层、N型硅层、P型硅层、P型接触层和薄膜导电层;

位于所述第一衬底第二表面上粘结的倒置后的外延结构,所述外延结构包括位于所述第一衬底第二表面依次排列的反射层、透明导电层、P型氮化镓层、P型氮化镓铝层、电子阻挡层、多量子阱层、电流扩展层和N型氮化镓铝层,部分暴露出的透明导电层表面包括第一区域和P型电极区域,所述P型氮化镓层覆盖所述第一区域,所述P型电极区域表面设置有P型电极;

位于所述N型氮化镓铝层表面设置的N型电极;

所述外延结构的一端具有刻蚀处理后形成的凹凸台面,所述凹凸台面的刻蚀深度从顶部的N型氮化镓铝层开始直到暴露出透明导电层的P型电极区为止;

位于所述凹凸台面内,贯穿所述透明导电层、反射层、第一衬底和氮化硅层的凹槽,所述凹槽基于所述凹凸台面刻蚀这一端的PN结结构形成;

所述凹槽中填充有内部接触层和隔离层,所述外延结构中的P型电极通过所述内部接触层与所述PN结结构中的N型硅层电连接,所述隔离层包裹所述内部接触层四周,以使所述内部接触层的侧壁与所述透明导电层、反射层和第一衬底均绝缘;

连接所述外延结构中N型电极与所述PN结结构中薄膜导电层的外部电极结构。

2.根据权利要求1所述的紫外LED芯片,其特征在于,还包括:

覆盖所述凹凸台面裸露表面的钝化层。

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