[实用新型]一种气缸及反应室

说明书

本实用新型公开了一种气缸及反应室，属于半导体制造技术领域，适用于驱动反应室的内门的开闭，所述反应室包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的反应室门，所述气缸包括气缸本体和一气压调节装置，所述气压调节装置设置于所述气缸本体的进气端口上；所述气缸本体的活塞杆连接所述反应室门。上述技术方案的有益效果是：通过在气缸的进气端口上设置一压力调节装置，调节气缸的进气气压，避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废；同延长气缸的使用寿命，降低设备的维护成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种适用于驱动反应室门的开闭的气缸及反应室。

背景技术

半导体制造过程中，许多工艺在机台的反应室内完成，在对晶圆处理的过程中，反应室处于封闭状态，因此反应室上设置有反应室门，于一片晶圆处理完后打开反应室门，以从反应室内取出当前晶圆，同时将另一待处理的晶圆放置到反应室中，然后反应室门关闭，使反应室封闭。

现有技术中，采用气缸驱动反应室门的开闭，每次晶圆进出气缸都会有一次开关动作，当作动次数达到一定程度，气缸的气缸轴和波纹管会出现破损导致气缸无法正常完成开关动作，如果在机台工作时，气缸在完成一反应室门关闭动作后损坏，则反应室内的产品会因为门无法打开而无法取出，破真空取出产品会导致产品直接报废，同时气缸坏后需要更换，除了购买新的气缸需要增加成本之外机台的使用率也会受到影响。现在，随着机台使用时间的增加，出现比较频繁的气缸损坏，导致产品报废以及成本增加。

发明内容

根据现有技术中存在的上述问题，现提供一种旨在避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废的气缸及反应室。本实用新型采用如下技术方案：

一种气缸，适用于驱动反应室的反应室门的开闭，所述反应室包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的反应室门，所述气缸包括气缸本体和一气压调节装置，所述气压调节装置设置于所述气缸本体的进气端口上；

所述气缸本体的活塞杆连接所述反应室门。

较佳的，上述气缸中，所述气压调节装置包括：

壳体，所述壳体上设置有进气口、出气口、进气通道和出气通道，所述进气口连接进气通道，所述出气口连接出气通道；

螺旋手柄，所述螺旋手柄的螺杆从所述壳体的上方伸入至所述壳体内；

膜片，设置于所述壳体内，并于所述膜片和所述螺杆之间连接一第一弹簧，所述膜片与所述壳体的下端构成一腔体，所述出气通道与所述腔体连通；

第一活塞，设置于所述壳体的下端，所述第一活塞通过一压杆连接于所述膜片上，并于所述第一活塞未连接所述压杆的一面连接一第二弹簧，所述第一活塞可控制所述进气通道与所述腔体的导通。

较佳的，上述气缸中，所述气压调节装置还包括泄压腔，设置于所述壳体的侧壁上，所述泄压腔上设置泄压口；

于所述泄压腔内设置一连接有第三弹簧的第二活塞，所述第二活塞设置于所述泄压腔朝向所述壳体的一端内；

所述第一活塞可控制所述泄压腔与所述腔体的导通。

较佳的，上述气缸中，所述气压调节装置的压力调节范围80～110psi。

较佳的，上述气缸中，还包括一气压表，设置于所述压力调节装置的出气口上。

还包括，一种反应室，其中，包括上述任一所述的气缸。

上述技术方案的有益效果是：通过在气缸的进气端口上设置一压力调节装置，调节气缸的进气气压，避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废；同延长气缸的使用寿命，降低设备的维护成本。

附图说明