[实用新型]一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置有效
| 申请号： | 201721147498.X | 申请日： | 2017-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN207183226U | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 刘小军;王正华 | 申请（专利权）人： | 安徽越众光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所32207 | 代理人： | 蒋海军 |
| 地址： | 243000 安徽省马鞍山市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 太阳能电池 湿法 刻蚀 水洗 装置 | ||
1.一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，包括水洗槽(2)，水洗槽(2)内设有传送装置(4)，其特征在于：所述水洗槽(2)内设有喷淋装置，该喷淋装置包括外围喷淋装置和内循环喷淋装置，其中外围喷淋装置通过第一喷淋进水管(8)直接与外围供水总管(7)相连，内循环喷淋装置通过第二喷淋进水管(14)与储水箱(12)相连，且该储水箱(12)与水洗槽(2)之间通过回水管(15)相连。
2.根据权利要求1所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述的外围喷淋装置和内循环喷淋装置均包括对应设置的上喷淋水刀和下喷淋水刀，且上喷淋水刀与下喷淋水刀对应设置在传送装置(4)的上方与下方。
3.根据权利要求2所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述的外围喷淋装置位于内循环喷淋装置远离水洗槽(2)进料端的一侧，且所述的内循环喷淋装置包括3对依次设置的上喷淋水刀和下喷淋水刀。
4.根据权利要求2或3所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述上喷淋水刀的外周套设有防护罩(10)。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述储水箱(12)通过内循环进水管(11)与外围供水总管(7)相连，且储水箱(12)的底部设有排水口，排水口与排水管(13)相连。
6.根据权利要求5所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述第一喷淋进水管(8)、内循环进水管(11)及排水管(13)上均设有流量调节阀(801)。
7.根据权利要求6所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述的传送装置(4)采用传送辊轮，且水洗槽(2)内部靠近出料端的传送辊轮上方设有赶液辊轮。
8.根据权利要求7所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述水洗槽(2)内部的赶液辊轮包括并排设置的第一赶液辊轮(601)和第二赶液辊轮(602)。
9.根据权利要求7所述的一种硅太阳能电池湿法刻蚀水洗装置，其特征在于：所述赶液辊轮采用圆柱状结构，其与对应传送辊轮之间的竖直间距与待输送硅片(5)的厚度相匹配。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
