[实用新型]一种自动硅料碱洗设备有效

专利信息
申请号: 201721063577.2 申请日: 2017-08-23
公开(公告)号: CN207659103U 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 刘文涛;王齐;陈磊;刘东宏;张潇 申请(专利权)人: 浙江昱辉阳光能源有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵青朵
地址: 314117 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 酸中和 硅料 本实用新型 纯水槽 碱洗 出口连接 碱洗设备 槽出口 碱洗槽 进口 清洗效果 设备设置 碎片料 粒径 清洗 自动化
【说明书】:

实用新型提供了一种自动硅料碱洗设备,包括:碱洗槽,进口与碱洗槽出口连接的第一纯水槽;进口与第一纯水槽出口连接的第一酸中和槽;进口与第一酸中和槽出口连接的第二酸中和槽;进口与第二酸中和槽出口连接的第二纯水槽。与现有技术相比,本实用新型提供的自动碱洗硅料设备设置有两个酸中和槽,在清洗硅料碎片时同时使用两个酸中和槽,能够延长酸中和的时间;本实用新型提供的自动碱洗硅料设备可对粒径在10mm以下的碎片料进行自动化碱洗操作,清洗效果好而且效率高。

技术领域

本实用新型涉及硅料清洗技术领域,尤其涉及一种自动硅料碱洗设备。

背景技术

高纯硅是半导体行业和太阳能发电行业最基础的原料,高纯硅料在出厂前需要对其表面进行清洗,同时使用高纯硅料生产的晶锭还会产生边角料,这些边角料需要经过清洗后再回炉。早期的清洗工艺为氢氟酸和硝酸的混酸清洗,由于混酸对环境污染严重,对人体的危害较大。因此,现有技术一般使用氢氧化钠溶液进行碱洗,如采用硅料自动碱洗设备。现有的硅料自动碱洗设备在清洗粒径很小的硅料(粒径小于10mm)以及碎片时,能够将硅料表面的杂质清洗干净,但是不能完全去除硅料表面残留的碱离子。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种自动硅料碱洗设备,本实用新型提供的自动硅料碱洗设备能够较好的清洗硅料表面的残留碱离子。

本实用新型提供了一种自动硅料碱洗设备,包括:

碱洗槽,

进口与碱洗槽出口连接的第一纯水槽;

进口与第一纯水槽出口连接的第一酸中和槽;

进口与第一酸中和槽出口连接的第二酸中和槽;

进口与第二酸中和槽出口连接的第二纯水槽。

优选的,所述碱洗槽为3个碱洗槽;

第一碱洗槽、第二碱洗槽和第三碱洗槽的出口均与第一纯水槽的进口连接。

优选的,还包括上料位。

优选的,所述上料位为3个,第一上料位的出口与第一碱洗槽的进口连接,第二上料位的出口与第二碱洗槽的进口连接,第三上料位的出口与第三碱洗槽的进口连接。

优选的,还包括超声槽,所述超声槽的进口与第二纯水槽的出口连接。

优选的,还包括干燥位,所述干燥位的进口和超声槽的出口连接。

优选的,还包括电脑控制系统,所述电脑控制系统用于控制碱洗槽、第一纯水槽、第一酸中和槽、第二酸中和槽和第二纯水槽的运行。

优选的,所述第一酸中和槽设置有两个出口,第一酸中和槽第一出口和第二酸中和槽进口连接,第一酸中和槽第二出口和第二纯水槽进口连接。

优选的,所述上料位、碱洗槽和第一纯水槽采用导轨连接。

优选的,所述导轨上设置有机械吊臂,所述机械吊臂用于运输盛放硅料的花篮。

现有技术中的硅料自动碱洗设备在清洗很小的硅料(尤其是粒径小于10mm)的硅料碎片时,能够将硅料表面清洗干净,但是硅料表面残留有碱金属离子;由于细碎的硅料相互堆积在一起,相互接触的地方很难清洗到,片状料相互之间的堆叠现象更严重,两个片状料相互叠放后中间贴合紧密不容易清洗到,酸中和是用酸将残留的碱离子去除掉,由于硅料的叠加短时间很难将碱离子完全去掉,虽然延长酸中和的时间可以达到目的,但是延长酸中和的时间会影响整体的清洗效率,造成产能下降。与现有技术相比,本实用新型提供的自动碱洗硅料设备设置有两个酸中和槽,在清洗硅料碎片时同时使用两个酸中和槽,能够延长酸中和的时间;本实用新型提供的自动碱洗硅料设备可对粒径在10mm以下的碎片料进行自动化碱洗操作,清洗效果好而且效率高。

附图说明

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