[实用新型]辐射检查系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及辐射成像技术领域，特别是涉及一种辐射检查系统。

背景技术

利用辐射成像对车辆及货物等大型目标进行检查已是比较成熟的安检技术，根据成像原理不同，主要有透射式辐射成像和散射式辐射成像两大类。

一般来说，透射式辐射成像系统主要由辐射源、位于被扫描物体另一侧的探测器组成，辐射源用于向被扫描物体发射扫描射线束，探测器用于接收从被扫描物体透射的辐射信号，所接收到的辐射信号反应了被照物体的密度和厚度等信息，可显示物体的内部结构，因此可以根据探测器探测到的辐射信号形成被检测物体的透射图像。

基于透射式辐射成像原理形成的透射图像显示的是扫描射线束路在传播径上穿透的所有物质的投影信息，因此在扫描射线束的传播路径上的被检查物体是多个叠加物体时，基于探测器接收到的透射信号形成的透射图像不能很好地分辨前后重叠的多个物体。

散射式辐射成像系统主要通过收集被检测物体散射的射线进行成像。当系统收集的散射的射线的散射角在90°～180°之间时，称之为背散射成像，利用背散射的特点，可以在系统获取的图像上高亮显示低原子序数的物质。利用背散射成像技术对被检测物体进行检测时，不利于探测到隐藏在吸收系数较大的物质(如金属等)后面的违禁品。

因此，无论是利用透射式辐射成像系统还是背散射辐射成像系统对被检测物体进行辐射成像，所成的图像中均可能存在需要进一步确认的嫌疑区域，由此，需要一种快速有效地对被检测物体中的某些嫌疑区域进行复检的检测方案。

实用新型内容

本实用新型主要目的在于提供一种能够方便有效地对被检测物体中的嫌疑区域进行复检的辐射检查系统。

根据本实用新型的一个方面，提供了一种辐射检查系统，用于在与被检测物体之间具有相对运动的情况下对其进行辐射检查，包括：辐射成像装置；以及控制装置，用于控制辐射成像装置以第一扫描模式对被检测物体进行辐射扫描成像，以得到扫描图像，其中，在扫描图像中存在需要复检的复检嫌疑区域的情况下，控制辐射成像装置使用第二扫描模式对被检测物体上与复检嫌疑区域相对应的部分进行辐射扫描成像，以得到复检图像，第二扫描模式不同于第一扫描模式。

优选地，该辐射检查系统还可以包括：第一比较器，用于比较扫描图像中是否存在像素值低于第一预定阈值的区域，像素值低于第一预定阈值的区域即为复检嫌疑区域；和/或第二比较器，用于比较扫描图像中是否存在单位面积内物体边缘数量或边缘长度大于第二预定阈值的区域，单位面积内物体边缘数量或边缘长度大于第二预定阈值的区域即为复检嫌疑区域；和/或第三比较器，用于比较扫描图像中是否存在像素所对应的等效原子序数大于第三预定阈值的区域，像素所对应的等效原子序数大于第三预定阈值的区域即为复检嫌疑区域；和/或第四比较器，用于将扫描图像中对应于被检测物体中的特定区域的部分确定为复检嫌疑区域。

优选地，辐射成像装置在第二扫描模式下的第二扫描速度大于在第一扫描模式下的第一扫描速度，并且/或者，辐射成像装置在第二扫描模式下的第二扫描视角或第二扫描视角组合不同于在第一扫描模式下的第一扫描视角或第一扫描视角组合，其中，扫描视角为入射到被检测物体的射线束的发射方向与被检测物体与辐射成像系统的相对运动方向之间的夹角，并且/或者辐射成像装置在第二扫描模式下发射的第二扫描射线束的能量大于在第一扫描模式下发射的第一扫描射线束的能量，并且/或者辐射成像装置在第二扫描下发射的第二扫描射线束的射线剂量率大于在第一扫描模式下发射的第一扫描射线束的射线剂量率。

优选地，第一扫描模式下的第一扫描视角下入射到被检测物体的第一扫描射线束的发射方向基本上垂直于被检测物体与辐射成像系统的相对运动方向，第二扫描模式下的第二扫描视角与第一扫描视角的夹角大于或等于5°。

优选地，在检测装置检测到被检测物体进入扫描区域时，控制装置控制辐射成像装置发射扫描射线束，在检测装置检测到被检测物体离开扫描区域时，控制装置控制辐射成像装置停止发射扫描射线束。

优选地，辐射成像装置可以包括：辐射源，用于向被检测物体发射用于成像的扫描射线束；一个或多个探测器，用于接收从被检测物体散射或透射的辐射信号；图像处理器，用于根据一个或多个探测器接收到的辐射信号，生成相应的辐射图像。

优选地，辐射检查系统还可以包括：定位装置，用于获取被检测物体与辐射成像装置之间的相对位移信息，以便于控制系统根据相对位移信息确定复检嫌疑区域的位置信息。