[实用新型]一种用于真空镀膜的探头组件有效

专利信息
申请号: 201720282834.5 申请日: 2017-03-22
公开(公告)号: CN206583429U 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 王伟;卢成 申请(专利权)人: 成都国泰真空设备有限公司
主分类号: G01B21/08 分类号: G01B21/08;C23C14/54
代理公司: 成都科奥专利事务所(普通合伙)51101 代理人: 李志清
地址: 610000 四川省成都市温江*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 真空镀膜 探头 组件
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域,特别是涉及一种用于真空镀膜的探头组件。

背景技术

真空镀膜机通常采用探头组件监测镀膜的厚度,现有的探头大多采用密封圈与探头支架固定的,但是采用密封圈的探头不耐高温,通常真空镀膜机工作时会产生高温,高温会影响探头的密封性,从而使探头内部的晶振片寿命缩短或测量不准,导致镀膜厚度不可控。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种提高晶振片使用寿命的用于真空镀膜的探头组件。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:

一种用于真空镀膜的探头组件,包括调节支架、底座、探头和线缆,调节支架上设有安装有两根滑竿,调节支架可在滑竿上下移动,滑竿底部与底座连接,底座上安装有探头,探头与底座连接处设有陶瓷密封圈,探头内部设有晶振片,晶振片与线缆连接,线缆穿过底座和调节支架。

所述调节支架上还设有锁定螺母,用于将调节支架固定在滑竿上。

本实用新型通过陶瓷密封圈提高了探头的密封性,陶瓷密封圈具有耐高温的特点,因此陶瓷密封圈相比传统的密封圈能延长探头内部晶振片的使用寿命,调节支架上的锁定螺母可调节底座与调节支架之间的距离,使本实用新型的适用范围更广。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的探头组件的爆炸图。

附图标记:1—调节支架、11—滑竿、12—锁定螺母、2—底座、3—探头、31—晶振片、32—陶瓷密封圈、4—线缆。

具体实施方式

实施例

如图1所示,本实用新型包括调节支架1、底座2、探头3和线缆4,调节支架1上设有安装有两根滑竿11,调节支架1可在滑竿11上下移动,调节支架1上安装有锁定螺母12,锁定螺母12用于将调节支架1固定在滑竿11上,滑竿11底部与底座2连接,底座2上安装有探头3,如图2所示,探头3与底座2连接处设有陶瓷密封圈32,探头3内部设有晶振片31,晶振片31通过线缆4穿过底座2和调节支架1与晶控仪连接。

本实用新型的使用方法是:将调节支架1固定在真空镀膜机内侧的顶部,然后通过滑竿11调节底座2的高度,使底座2与被镀膜的产品的高度一致,然后真空镀膜机工作,晶控仪可根据晶振片31上膜的厚度计算出被镀膜产品的膜厚度,从而精准的控制镀膜,探头3上的陶瓷密封圈32耐高温,可避免由于密封圈损坏导致探头3使用寿命缩短。

以上所述仅是本实用新型优选的实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何基于本实用新型所提供的技术方案和发明构思进行的改造和替换都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

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