[实用新型]清洗装置及机械研磨设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，特别涉及一种清洗装置及机械研磨设备。

背景技术

在半导体的制造过程中，通常会涉及对晶片的机械研磨工艺，即，将晶片放置于机械研磨设备中，通过机械研磨设备的研磨台对晶片进行平坦化或抛光等处理。

目前，机械研磨设备中通常会配置一清洗装置，以对机械研磨设备进行清洗，例如，用于去除机械研磨设备的研磨台上的研磨浆和研磨残留物，避免对后续待研磨的晶片造成磨损。然而，大多数的机械研磨设备的清洗装置只针对研磨台的台面进行清洗，而没有针对其他区域进行清洗，对机械研磨设备的清洁范围有限，易引发交叉污染的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种清洗装置及机械研磨设备，以解决现有的机械研磨设备中，针对研磨台侧壁没有相应的清洗装置，进而无法对研磨台侧壁进行及时的清洗而导致在研磨台侧壁产生大量的堆积物的问题。

上述技术问题，本实用新型提供一种清洗装置，所述清洗装置用于对机械研磨设备中研磨台的侧壁进行清洗，所述清洗装置包括：

至少一个用于与所述研磨台的侧壁接触的清洗刷头；

用于控制所述清洗刷头移动的连接组件，所述连接组件的一端连接所述清洗刷头；以及，

用驱动所述连接组件移动驱动装置，所述驱动装置连接所述连接组件的另一端。

可选的，所述清洗刷头为可旋转刷头。

可选的，所述研磨台为圆柱形结构并沿所述圆柱形结构的轴线方向旋转，所述清洗刷头的旋转方向与所述研磨台的旋转方向相反。

可选的，当研磨台侧壁和所述清洗刷头接触时，所述研磨台侧壁的移动带动所述清洗刷头旋转。

可选的，所述清洗刷头内还设置有第一喷嘴，所述第一喷嘴与一清洗液供给装置连通。

可选的，所述连接组件包括第一连接杆和至少一个第二连接杆；所述第一连接杆与所述驱动装置连接，所述驱动装置带动所述第一连接杆沿特定方向移动；所述第二连接杆的一端与清洗刷头连接，所述第二连接杆的另一端与所述第一连接杆连接，所述第二连接杆沿着以第一连接杆和第二连接杆的连接点为圆心的弧线方向移动。

可选的，所述清洗装置还包括一底座，所述驱动装置安装于所述底座上。

可选的，所述底座为条状的中空结构，在所述底座的长度方向的侧壁上开设有一开口，所述驱动装置安装于所述中空结构内，所述连接组件通过所述开口延伸出来。

可选的，所述底座上还设置有至少一个第二喷嘴，所述第二喷嘴与一清洗液供给装置连通。

本实用新型的又一目的在于，提供一种机械研磨设备，其包括如上所述的清洗装置；以及，至少一个研磨台。

可选的，所述机械研磨设备包括两个研磨台，所述清洗装置包括两个清洗刷头。

可选的，所述清洗装置位于两个所述研磨台之间。

可选的，所述研磨台为圆柱形结构并可绕所述圆柱形结构的轴线方向旋转。

可选的，所述研磨台的旋转速度为8rpm/min～15rpm/min。

在本实用新型提供的清洗装置及机械研磨设备中，所述清洗装置具有一清洗刷头和一驱动装置，通过所述驱动装置使清洗刷头与研磨台的侧壁接触，实现对研磨侧壁进行自动化清洗的目的。不仅可有效提供清洗效果，同时可及时去除研磨台侧壁上的研磨残留物，避免在研磨台的侧壁上形成坚硬的堆积物而对研磨产品造成影响。

附图说明

图1为一种机械研磨设备的结构示意图；

图2为本实用新型一实施例中的清洗装置的结构示意图；

图3为本实用新型一实施例中的清洗装置其清洗刷头在清洗研磨台时的结构示意图；

图4为本实用新型一实施例中的清洗装置的底座的结构示意图；

图5为本实用新型一实施例中的机械研磨设备的结构示意图；

图6为本实用新型一实施例中的机械研磨设备中研磨台侧壁的清洗过程的结构示意图。

具体实施方式

如背景技术所述，在机械研磨设备的清洗装置中，其通常仅对针对研磨台的台面进行清洗，从而使未被清洗到的区域堆积大量的污染物，进而极易引发交叉污染的问题。