[实用新型]一种芯片承载带有效

专利信息
申请号: 201720029852.2 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN206537725U 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 胡伟华 申请(专利权)人: 昆山富利瑞电子科技有限公司
主分类号: B65D73/02 分类号: B65D73/02
代理公司: 北京高航知识产权代理有限公司11530 代理人: 赵永强
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 承载
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电子元器件及芯片包装技术领域,具体涉及一种芯片承载带。

背景技术

承载带用于将来自无件制造商的元件传送到不同的制造商,这些不同的制造商将承载带中携带的元件组装成完整的产品。电子元件承载带广泛应用于电子元器件、半导体贴片类电子零件,例如 IC、二极 管、三极管、电阻、电容等的包装、承载与输送。近年来电子产品均朝短、小、轻、薄及多功能的趋势发展。为此,电子产品中的集成电路装置亦必须能满足小尺寸及高脚数的要求。

目前,随着芯片技术的进步,在生产生活上的广泛应用,提高生产生活质量,现有芯片承载装置包括一基座、多个间隔设置于该基座的上表面上的第一挡壁、多个对应所述第一挡壁而间隔设置于该基座的下表面上的第二挡壁,及一形成于该上表面的凹槽,但在 这个过程中我们也发现了一些问题:工序繁琐,生产成本高,不能很好避免损坏封装元件;而且,取出麻烦,在取出的过程中可能会地芯片造成损伤。

因此, 针对上述问题,本实用新型提出了一种新的技术方案。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种结构简单,制备方便,避免在运输过程中的晃动对芯片造成损伤的芯片承载带。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的:

一种芯片承载带,包括承载带本体,所述承载带本体上设有若干个芯片纳容腔,相邻两个芯片纳容腔之间的距离相等,芯片纳容腔分为上腔体和下腔体,上腔体四壁为斜面结构,斜面的角度为15~25度,下腔体与上腔体之间设有台阶,台阶四角为弧形结构,所述承载带本体底部若干列凸点组,相邻相列凸点组的距离相等。

进一步地,每个芯片纳容腔相侧均设有挂耳。

进一步地,所述承载带本体两侧均匀开设有若干个蜂孔。

进一步地,每个芯片纳容腔内的上腔体、下腔体和台阶为一体结构,下腔体的深度为5~10mm。

进一步地,每列凸点组均有若干个凸点组成,凸点的高度为0.5~2mm。

本实用新型的有益效果是:本实用新型提出的承载带结构合理,制备方法简单,芯片容纳腔分为上腔体和下腔体,上腔体采用四周斜面结构,方便芯片的放入以及取出,下腔体与上腔体之间设有台阶,用于固定芯片,引脚放置于下腔体,避免运输过程中的晃动,对芯片产生损伤,而且,承载带本体底部设有凸点组,凸点组避免承载带卷绕一起到,彼此接触摩擦产生的静电对芯片造成损伤。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的仰视图;

图3为芯片容纳腔的结构示意图;

图4为芯片容纳腔的侧视图。

其中:1、承载带本体,2、芯片容纳腔,3、上腔体,4、下腔体,5、台阶,6、挂耳,7、蜂孔,8、凸点。

具体实施方式

下面结合附图说明对本实用新型做进一步地说明。

如图1~4所示,一种芯片承载带,包括承载带本体1,承载带本体1上设有若干个芯片纳容腔2,相邻两个芯片纳容腔2之间的距离相等,芯片纳容腔2分为上腔体3和下腔体4,上腔体3四壁为斜面结构,斜面的角度为15~25度,下腔体4与上腔体3之间设有台阶5,台阶5四角为弧形结构,承载带本体1底部若干列凸点组,相邻相列凸点组的距离相等。每个芯片纳容腔2相侧均设有挂耳6,承载带本体1两侧均匀开设有若干个蜂孔7,每个芯片纳容腔2内的上腔体3、下腔体4和台阶5为一体结构,下腔体4的深度为5~10mm,每列凸点组均有若干个凸点8组成,凸点8的高度为0.5~2mm。

本实用新型提出的承载带结构合理,制备方法简单,芯片容纳腔分为上腔体和下腔体,上腔体采用四周斜面结构,方便芯片的放入以及取出,下腔体与上腔体之间设有台阶,用于固定芯片,引脚放置于下腔体,避免运输过程中的晃动,对芯片产生损伤,而且,承载带本体底部设有凸点组,凸点组避免承载带卷绕一起到,彼此接触摩擦产生的静电对芯片造成损伤。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山富利瑞电子科技有限公司,未经昆山富利瑞电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720029852.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top