[发明专利]制造液晶显示面板的方法有效
申请号: | 201711480153.0 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN108181749B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 王海军 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1343 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;武岑飞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 液晶显示 面板 方法 | ||
本发明提供了一种制造液晶显示面板的方法,所述方法包括以下步骤:提供滤色器基底;在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层,并使导电材料在光阻材料中沉积;对导电材料已沉积的平坦化层进行蚀刻,以形成具有支撑图案的平坦化层;在平坦化层上设置取向层;在取向层上设置液晶层;在液晶层上设置阵列基底,从而形成液晶显示面板,其中,所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体地,一种制造液晶显示面板的方法。
背景技术
目前随着薄膜晶体管液晶显示装置(TFT-LCD)技术越趋成熟,显示效果有了明显大幅度提高,因此能够呈现出较高的视觉效果。
根据液晶的取向而不同地设置电极的液晶显示技术包括高垂直取向(HVA)技术、平面转换(IPS)技术和聚合物稳定的垂直排列(PSVA)等。对于上述技术,液晶所处的层的平坦化程度对液晶影响较大,因此会影响取向过程,进而影响液晶显示装置的最终显示效果。因此,急需开发新材料以及新技术解决这一难题。
图1示意性地示出了现有技术的液晶显示面板的分解视图。如图1中所示,根据现有技术的液晶显示面板100可以包括滤色器基底10、阵列基底20以及位于滤色器基底10和阵列基底20之间的液晶层30。在滤色器基底10中,由于在1位置处存在栅极线且在2位置处存在数据线,因此,在1位置和2位置处存在凸起结构。此外,在形成滤色器膜之后,滤色器膜的相应位置也存在凸起的结构,这会导致具有凸起结构的1位置和2位置与边缘无凸起的位置存在层差,使得液晶30将在这两个位置处存在取向的差异,进而引起凸起的边缘位置漏光、色偏等问题。同时,由于滤色器膜的透光率不同,为提高色域,需要提供具有不同厚度的滤色器膜(例如,蓝色滤色器膜的厚度高于红色滤色器膜和绿色滤色器膜的厚度,而这样也会导致不同的滤色器膜之间存在层差。以上两者对液晶取向影响较大,进而对显示装置的光学表现影响较大。
现有技术中,为解决上述技术问题,普遍采用在滤色器基底10上设置平坦化层的手段。图2示出了根据现有技术的其上具有平坦化层滤色器基底。虽然图2中示出的其上设置有平坦化层40的滤色器基底10能够提高液晶30的取向效果,并最终降低因液晶30偏转异常而造成的漏光,但液晶显示面板的制程上多出了一道平坦化层40的制备工艺,因而增加了成本负担,不利于规模化生产。
发明内容
本发明构思的示例性实施例提供了一种制造液晶显示面板的方法以克服背景技术中描述的现有技术的不足。
在本发明构思的示例性实施例中,制造液晶显示面板的方法包括以下步骤:提供滤色器基底;在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层,并使导电材料在光阻材料中沉积;对导电材料已沉积的平坦化层进行图案化,以形成具有支撑图案的平坦化层;在平坦化层上设置取向层;在取向层上设置液晶层;在液晶层上设置阵列基底,从而形成液晶显示面板,其中,所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。
根据本发明构思的示例性实施例,所述导电材料可以具有1nm-100nm的尺寸。
根据本发明构思的示例性实施例,设置平坦化层的步骤可以包括:在光阻材料中混入导电材料,所述导电材料按质量百分比计占光阻材料的0.05%-20%;使导电材料分散在光阻材料中。
根据本发明构思的示例性实施例,设置平坦化层的步骤还可以包括:采用搅拌和/或超声的方法促进导电材料在光阻材料中的分散。
根据本发明构思的示例性实施例,设置平坦化层的步骤还可以包括:在将导电材料混入到光阻材料中之前,可以对导电材料进行改性,从而可以促进导电材料在光阻材料中的分散。
根据本发明构思的示例性实施例,导电材料可以包括碳纳米管,其中,对导电材料进行改性可以包括对碳纳米管的表面进行改性,从而可以使碳纳米管具有促进在光阻材料中分散的基团。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711480153.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。