[发明专利]制造液晶显示面板的方法

权利要求书

1.一种制造液晶显示面板的方法，所述方法包括以下步骤：

提供滤色器基底；

在滤色器基底上设置包括光阻材料和导电材料的平坦化层，并使导电材料在光阻材料中沉积；

对导电材料已沉积的平坦化层进行图案化，以形成具有支撑图案的平坦化层；

在平坦化层上设置取向层；

在取向层上设置液晶层；

在液晶层上设置阵列基底，从而形成液晶显示面板，

其中，所述导电材料包括碳纳米管、石墨烯、导电高分子、纳米级导电金属线、导电金属颗粒中的至少一种。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电材料具有1nm-100nm的尺寸。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，设置平坦化层的步骤包括：

在光阻材料中混入导电材料，所述导电材料按质量百分比计占光阻材料的0.05％－20％；

使导电材料分散在光阻材料中。

4.如权利要求3所述的方法，其中，设置平坦化层的步骤还包括：采用搅拌和/或超声的方法促进导电材料在光阻材料中的分散。

5.如权利要求3所述的方法，其中，设置平坦化层的步骤还包括：在将导电材料混入光阻材料中之前，对导电材料进行改性，以促进导电材料在光阻材料中的分散。

6.如权利要求5所述的方法，其中，导电材料包括碳纳米管，

其中，对导电材料进行改性包括对碳纳米管的表面进行改性，以使碳纳米管包括促进其在光阻中分散的基团。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中，在设置平坦化层的步骤中，所述平坦化层具有0.5μm-5μm的厚度。

8.如权利要求7所述的方法，其中，设置平坦化层的方法包括旋涂、喷墨打印和刮涂中的至少一种。

9.如权利要求1或2所述的方法，其中，对平坦化层进行图案化的步骤包括：

在已导电材料沉积的平坦化层上设置光掩模，

对覆盖有光掩模的平坦化层进行曝光和显影。

10.如权利要求9所述的方法，其中，光掩模包括半色调掩模或灰色调掩模。