[发明专利]一种金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器

权利要求书

1.一种金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述低频电磁阵列传感器包括引线接头、传感器壳体以及设置在所述传感器壳体内且固定在传感器壳体底部的阵列线圈组元件、第一磁屏蔽层、电磁铁；

其中，所述阵列线圈组元件的外部依次设有所述第一磁屏蔽层、电磁铁；所述引线接头设置在所述传感器壳体的外部，且与所述阵列线圈组元件电连接。

2.根据权利要求1所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述阵列线圈组元件包括均与所述引线接头连接的2n个线圈，各所述线圈成两列n行均匀排布在所述传感器壳体的底部，每一行中的两个线圈形成一个采集通道，用于采集差分信号，n为大于0的整数。

3.根据权利要求1所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述低频电磁阵列传感器还包括：

第二磁屏蔽层，固定在所述传感器壳体的底部，并设置在所述第一磁屏蔽层与电磁铁之间，并覆盖所述第一磁屏蔽层。

4.根据权利要求1所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述低频电磁阵列传感器还包括：

粘合层，设置在所述传感器壳体的底部，且所述粘合层上设置有所述阵列线圈组元件，用于将所述阵列线圈组元件固定在所述传感器壳体的底部。

5.根据权利要求1所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述低频电磁阵列传感器还包括：

耐磨层，设置在所述传感器壳体的底部，且所述耐磨层上设置有所述阵列线圈组元件、第一磁屏蔽层、电磁铁。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述电磁铁包括激励线圈及磁芯，所述磁芯的两端固定在所述传感器壳体的底部，且所述激励线圈卷绕在所述磁芯上。

7.根据权利要求6所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述磁芯的形状为弧形。

8.根据权利要求3所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述第一磁屏蔽层和/或第二磁屏蔽层的材料为铁磁材料。

9.根据权利要求8所述的金属管道腐蚀缺陷检测用低频电磁阵列传感器，其特征在于，所述第一磁屏蔽层和/或第二磁屏蔽层的磁导率小于所述电磁铁的磁导率。