[发明专利]一种光学用反射聚酯膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光学用反射聚酯膜，其特征在于，所述反射聚酯膜为ABA三层结构，所述反射聚酯膜在波长为550nm的反射率为96.3-97％；所述A层的原料组成为：1-4％的聚酯切片、87-98％的无机粒子聚酯母粒和1-9％的抗静电聚酯母粒；所述B层的原料组成为：40-60％的聚酯切片和40-60％无机填料聚酯母粒；所述A层中的无机粒子聚酯母粒由3％的无机粒子和97％的聚酯组成；所述A层中的抗静电聚酯母粒由20％的抗静电剂和80％的聚酯组成；所述B层中的无机填料聚酯母粒由60％的无机填料和40％的聚酯组成；所述原料组成中的百分含量为重量百分含量。

2.根据权利要求1所述的光学用反射聚酯膜，其特征在于，所述光学用反射聚酯膜的总厚度为150-225μm，一个A层的厚度占总厚度的3-5％，B层的厚度占总厚度的90-94％；密度为0.88-0.99g/cm³，拉伸强度69-79MPa，断裂伸长率51-58％，光泽度为18-23GU。

3.根据权利要求1所述的光学用反射聚酯膜，其特征在于，所述光学用反射聚酯膜的B层中无机填料的含量为24-36％。

4.根据权利要求1所述的光学用反射聚酯膜，其特征在于，所述光学用反射聚酯膜的A层中无机粒子的粒径为4-8μm。

5.根据权利要求1所述的光学用反射聚酯膜，其特征在于，所述光学用反射聚酯膜的B层中无机填料的粒径为0.7-1μm。

6.根据权利要求1所述的光学用反射聚酯膜，其特征在于，所述A层中的无机粒子为二氧化硅；所述B层中的无机填料选自硫酸钡、碳酸钙中的一种。

7.一种制备权利要求1-6中任一项所述的光学用反射聚酯膜的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)将PET切片、二氧化硅PET母粒、抗静电PET母粒按照配比加入A挤出机；

(2)将PET切片、无机填料PET母粒按照配比加入B挤出机；

(3)A层挤出机的熔融液体和B层挤出机的熔融液通过熔体泵加入衣架式模头，并进行铸片；

(4)将铸片进行纵向拉伸、横向拉伸、热定型、收卷和分切，制得光学用反射聚酯膜。

8.一种根据权利要求1-6中任一项所述的光学用反射聚酯膜的应用，其特征在于，所述光学用反射聚酯膜适用于超薄直下式背光模组。