[发明专利]一种高稳定性釉中彩日用瓷及其生产工艺

权利要求书

1.一种高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于，包括以下百分含量组分：重晶石3-6％、萤石3-10％、硼酸镁晶须1-8％、β-海泡石10-18％、海藻酸钠7-12％、粘土余量。

2.根据权利要求1所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于：所述粘土选自高岭土、硅藻土、蒙脱土、水铝英石、蛭石中的一种或多种组合物。

3.根据权利要求2所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于：所述粘土采用质量比0.5-1：1-4：5的蛭石、蒙脱土、高岭土的组合物。

4.根据权利要求1-3任一项所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于，生产工艺如下：

1)按质量百分比取料，将重晶石、萤石、β-海泡石分别粉碎后过200目筛，筛分磁选后与粘土共混，继续研磨过350-400目筛，筛分磁选后得基料，备用；

2)将海藻酸钠加入3.5wt％的聚乙烯醇水溶液中，搅拌至溶解后向其中加入硼酸镁晶须，超声处理或电磁辐射处理，得预制液备用；

3)向基料中加入水，搅拌混匀后在25-28℃静置放置6-8天，然后将其搅拌至均匀流动状态下，将预制液加入其中，继续搅拌至少5小时，得瓷泥浆料；

4)将瓷泥浆料进行真空练泥，然后在22.5-26MPa的压力下将瓷泥浆料压入模具中，制得坯体；

5)将坯体送入干燥窑炉中烘干至含水量为12-15％，向坯体表面施加釉基颜料，然后继续烘干至含水量小于3％；

6)将施釉后的坯体送入烧制窑中，先在680-850℃条件下保温0.1-1h，然后升温至950-1000℃条件下烧制1-2h，再升温至1220-1260℃条件下烧制0.5h，再降温至1130-1150℃继续烧制2-4h，冷却后即得高稳定性釉中彩日用瓷。

5.根据权利要求4所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于：步骤1)中聚乙烯醇水溶液与海藻酸钠、硼酸镁晶须两者之和的添加体积比为2-3：1。

6.根据权利要求4所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于：步骤1)中超声处理具体为频率26.3-26.8KHz，时间为5-40min；电磁辐射具体为高频辐射20-25μW/cm²，时间为5-20min。

7.根据权利要求4所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于：步骤5)釉基颜料中包括SiO2、Al2O3、ZnO、CaO、MgO。

8.根据权利要求7所述的高稳定性釉中彩日用瓷，其特征在于：釉基颜料中硅铝比为1.1-1.85。