[发明专利]像素结构及曲面显示装置有效

专利信息
申请号: 201711363990.5 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN108107633B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 江振豪;陈政德 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1333;G06F3/041
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 结构 曲面 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种像素结构及曲面显示装置,包括基板、两条数据线、三条扫描线、三个开关元件、三个第一电极及触控电极线。基板具有第一、第二及第三子像素区。数据线和扫描线交错,以定义出第一、第二及第三子像素区。开关元件分别电性连接至扫描线。开关元件电性连接至该些数据线之一。第一电极分别位于第一、第二及第三子像素区上。每一第一电极具有多个狭缝,各该狭缝具有一转折处。触控电极线穿越第一、第二及第三子像素区。触控电极线与该些数据线的延伸方向实质上相同。触控电极线于基板的垂直方向上和转折处重叠。

技术领域

本发明是有关于一种像素结构及曲面显示装置,且特别是有关于一种具有触控电极线的像素结构及曲面显示装置。

背景技术

近年来,随着显示技术的不断进步,观赏者对于显示器的显示品质(如影像解析度、色彩饱和度等)的要求也越来越高。然而,为了制造高效能的显示器,显示装置中的像素结构需要具备足够高的开口率。

在触控显示装置中,像素结构中的触控电极线覆盖了显示区的部分面积,并使得像素结构的开口率下降。在一些显示装置中,为了让触控电极线能跨过其他信号线,须要额外设置多个与触控电极线相连的导电结构,使触控电极线可以与其他的导电膜层电性相连。除了触控电极线本身的面积会降低像素结构的开口率之外,这些连接到其他导电膜层的导通结构也会降低像素结构的开口率。另外,由于这种导通结构的制程较为复杂,若这种导通结构的数量过多,会降低触控显示装置的产品良率。因此,目前亟需一种能解决前述问题的方法。

发明内容

本发明提供一种像素结构,能减少触控电极线所造成的开口率下降的问题。

本发明提供一种曲面显示装置,能减少触控电极线所造成的开口率下降的问题。

本发明的至少一实施例提供一种像素结构,包括基板、两条数据线、三条扫描线、三个开关元件、三个第一电极以及触控电极线。基板具有第一子像素区、第二子像素区以及第三子像素区。数据线以及扫描线位于基板上。数据线和扫描线交错,以分别定义出第一子像素区、第二子像素区以及第三子像素区。开关元件分别电性连接至扫描线。开关元件分别电性连接至该些数据线之一。第一电极分别位于第一子像素区、第二子像素区以及第三子像素区上。每一第一电极具有多个狭缝,狭缝具有转折处。触控电极线穿越第一子像素区、第二子像素区以及第三子像素区。触控电极线与数据线的延伸方向实质上相同。触控电极线于基板的垂直方向上和转折处重叠。

本发明的至少一实施例提供一种像素结构,包括基板、多条数据线、扫描线、多个开关元件、多个第一电极以及导通结构。基板包括相同颜色的多个子像素区。多条数据线以及扫描线位于基板上。数据线和扫描线交错。子像素区沿着扫描线的延伸方向排列。多个开关元件分别电性连接至扫描线以及数据线之一。多个第一电极分别位于子像素区上,且具有多个狭缝。狭缝具有转折处。至少一触控电极线于基板的垂直方向上和其中一个第一电极的转折处重叠。至少一导通结构位于其中一个子像素区上,且与触控电极线电性连接。

本发明的至少一实施例提供一种曲面显示装置,包括如上述的像素结构。

本发明的目的之一为减少触控电极线所造成的开口率下降的问题。

本发明的目的之一为减少与触控电极线电性连接的导通结构的数量。

本发明的目的之一为避免触控电极线干扰数据线的信号。

本发明的目的之一为降低触控电极线的制程难度。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式作详细说明如下。

附图说明

图1A是依照本发明的一实施例的一种像素结构及其周围元件的上视示意图。

图1B是沿着图1A的线AA’与线BB’的剖面示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711363990.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top