[发明专利]像素结构及曲面显示装置有效

专利信息
申请号: 201711363990.5 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN108107633B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 江振豪;陈政德 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1333;G06F3/041
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 结构 曲面 显示装置
【权利要求书】:

1.一种像素结构,其特征在于,包括:

一基板,具有一第一子像素区、一第二子像素区以及一第三子像素区;

两条数据线以及三条扫描线,位于该基板上,且该些数据线和该些扫描线交错,以分别定义出该第一子像素区、该第二子像素区以及该第三子像素区;

三个开关元件,分别电性连接至该三条扫描线,且该三个开关元件分别电性连接至该些数据线之一;

三个第一电极,分别位于该第一子像素区、该第二子像素区以及该第三子像素区上,且每一该第一电极具有多个狭缝,各该狭缝具有一转折处;

一触控电极线,穿越该第一子像素区、该第二子像素区以及该第三子像素区,具有一延伸方向与该些数据线的延伸方向实质上相同,且于该基板的垂直方向上和该些转折处重叠;以及

三个第二电极,和该三个第一电极电性绝缘,且分别位于该第一子像素区、该第二子像素区以及该第三子像素区上,其中该三个第二电极和该三个第一电极中的一者电性连接至该三个开关元件,且该三个第二电极和该三个第一电极中的另一者电性连接该触控电极线。

2.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该些数据线相邻并具有一第一间距,任两相邻的该些扫描线具有一第二间距,其中该第一间距大于该第二间距。

3.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该触控电极线与该数据线属于同一膜层。

4.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,

该三个第二电极分别电性连接至该三个开关元件,其中

位于该第一子像素区、该第二子像素区以及该第三子像素区上的该些第一电极彼此电性连接,且通过一导通结构电性连接至该触控电极线。

5.如权利要求4所述的像素结构,其特征在于,该第一子像素区为红色子像素区,该第二子像素区为绿色子像素区,该导通结构位于该第三子像素区上。

6.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,更包括:

该些第二电极彼此电性连接,且通过一导通结构电性连接至该触控电极线,其中

该三个第一电极分别电性连接至该三个开关元件。

7.如权利要求6所述的像素结构,其特征在于,该第一子像素区为红色子像素区,该第二子像素区为绿色子像素区,且该第三子像素区为蓝色子像素区,该导通结构位于该第三子像素区上。

8.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,更包括:

一导通结构,位于该第三子像素区中,且电性连接至该触控电极线,其中该导通结构和对应该第三子像素区的该扫描线的距离小于该导通结构和对应该第二子像素区的该扫描线的距离。

9.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,每一该第一电极的每一该狭缝为V字形。

10.如权利要求1所述的像素结构,其特征在于,对应该第一子像素区的该开关元件以及对应该第三子像素区的该开关元件电性连接该些数据线之一,对应该第二子像素区的该开关元件电性连接该些数据线的另一者。

11.一种像素结构,其特征在于,包括:

一基板,包括多个子像素区;

多条数据线以及一扫描线,位于该基板上,且该些数据线和该扫描线交错,以定义出该些子像素区,该些子像素区沿着该扫描线的延伸方向排列;

多个开关元件,分别电性连接至该扫描线以及该些数据线之一;

多个第一电极,分别位于该些子像素区上,且具有多个狭缝,各该狭缝具有一转折处;

至少一触控电极线,于该基板的垂直方向上和其中一个第一电极的该些转折处重叠;

至少一导通结构,位于其中一个子像素区上,且与该触控电极线电性连接;以及

多个第二电极,和该些第一电极电性绝缘,且分别位于该些子像素区上,其中该些第二电极和该些第一电极中的一者电性连接至该些开关元件,且该些第二电极和该些第一电极中的另一者电性连接该触控电极线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711363990.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top