[发明专利]一种阵列基板、其制备方法、指纹识别方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201711338861.0 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN107832749B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 孙艳六;史世明;刘政;周伟峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06F3/041
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 制备 方法 指纹识别 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:衬底基板以及位于所述衬底基板的显示区域内的多个像素单元和多个指纹识别单元;所述像素单元包括薄膜晶体管;所述薄膜晶体管包括:有源层、在所述有源层远离所述衬底基板一侧设置的栅电极,在所述栅电极远离所述衬底基板一侧设置源、漏电极;

所述指纹识别单元包括:遮光层和感光图像传感器;

所述遮光层包括:用于实现小孔成像的通孔和主体部分;

所述遮光层为金属遮光层,且所述遮光层位于所述薄膜晶体管靠近所述衬底基板的一侧;

其中,所述通孔在所述衬底基板上的正投影与所述薄膜晶体管和与所述薄膜晶体管连接的各导线在衬底基板上的正投影均不重叠,所述主体部分和所述薄膜晶体管的栅电极在衬底基板上的正投影重叠;

所述感光图像传感器用于接收指纹通过所述通孔所成的像。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述通孔在所述衬底基板上呈阵列排列,并且任意相邻两个所述通孔的中心距离满足:

其中,d表示相邻两个所述通孔的中心距离,D表示所述通孔的直径,hd表示所述遮光层的下表面到所述感光图像传感器上表面的距离,ht表示所述遮光层的厚度。

3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述通孔的直径的取值范围为5~20微米。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述像素单元在所述衬底基板上的正投影。

5.如权利要求1-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述感光图像传感器位于所述衬底基板背向所述遮光层的一侧与所述通孔对应的位置。

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述感光图像传感器为CCD感光图像传感器或CMOS感光图像传感器。

7.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层位于所述衬底基板与所述像素单元之间。

8.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板包括至少两层柔性层,所述遮光层设置在两层所述柔性层之间。

9.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板为柔性基板,在所述遮光层与所述像素单元之间还设置有低温介质层。

10.一种如权利要求1-9任一项所述的阵列基板的制备方法,所述阵列基板包括:衬底基板以及位于所述衬底基板的显示区域内的多个像素单元和多个指纹识别单元;其特征在于,包括:

在所述衬底基板上形成所述遮光层;

对所述遮光层的主体部分进行构图,在所述指纹识别单元所在区域内形成能够成像的所述通孔,其中,所述通孔在所述衬底基板上的正投影与所述像素单元和与所述像素单元连接的各导线在衬底基板上的正投影均不重叠,所述主体部分和所述薄膜晶体管的栅电极在衬底基板上的正投影重叠;

在形成所述通孔的所述遮光层上形成所述像素单元的各膜层;

以及,在所述衬底基板背向所述遮光层的一侧与所述通孔对应的位置设置感光图像传感器。

11.一种利用权利要求1-9任一项所述的阵列基板进行指纹识别的方法,其特征在于,包括:

获取所述感光图像传感器成像的图像;

通过对所述感光图像传感器成像的图像进行拼接和整合得出完整的指纹图像;

其中,所述感光图像传感器成像的图像是通过指纹反射所述像素单元发出的光经各所述通孔在各所述通孔对应的所述感光图像传感器上成像的图像。

12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的阵列基板。

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