[发明专利]光电路交换机反射镜阵列裂纹防护有效

专利信息
申请号: 201711338639.0 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN108345105B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 凯文·Y·亚苏穆拉 申请(专利权)人: 谷歌有限责任公司
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 周亚荣;安翔
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电路 交换机 反射 阵列 裂纹 防护
【说明书】:

本申请涉及光电路交换机反射镜阵列裂纹防护。光电交换机在近年来在数据中心中的地位日益突出,因为它们能够快速地转发光数据信号而无需首先将那些信号转换回电域。某些光电路交换机是利用一个或多个单轴或双轴万向微机电系统(MEMS)反射镜实现的,所述单轴或双轴万向微机电系统(MEMS)反射镜的取向可被调整以将来自交换机的输入端口的光引导到交换机的期望输出端口。根据本公开的系统和方法涉及具有诸如多个截口的裂纹防护特征的微机电系统(MEMS)反射镜组件。

技术领域

本申请涉及光电路交换机反射镜阵列裂纹防护。本申请要求于2017年1月23日提交的题为“OPTICAL CIRCUIT SWITCH MIRROR ARRAY CRACK PROTECTION(光电路交换机反射镜阵列裂纹防护)”的美国临时专利申请No.62/449,429的优先权和权益,其全部内容在此通过引用而并入。

背景技术

光电路交换机在近年来在数据中心中的地位日益突出,因为它们能够快速地转发光数据信号而无需首先将那些信号转换回电域。某些光电路交换机是利用一个或多个单轴或双轴万向微机电系统(MEMS)反射镜实现的,所述单轴或双轴万向微机电系统(MEMS)反射镜的取向可被调整以将来自交换机的输入端口的光引导到交换机的期望输出端口。

发明内容

根据一个方面,在该公开中所描述的主题涉及一种微机电系统(MEMS)反射镜组件,该微机电系统(MEMS)反射镜组件包括限定致动器、万向架结构以及具有内周边的反射镜切口的部分的反射镜衬底。反射镜组件包括具有反射表面的反射镜,该反射镜位于反射镜衬底的反射镜切口之内并通过至少一个定子与反射镜衬底相耦合。该反射镜由该万向架结构支撑。反射镜具有限定反射镜的主反射平面的基本上平的表面。当反射镜的主反射平面与反射镜衬底平行时,反射镜的周边与反射镜切口的内周边除了在至少一个定子处之外基本围绕反射镜的整个周边隔开一间隙。除了限定在反射镜衬底和反射镜中的至少一个中的多个截口(nibble)之外,间隙的大小围绕反射镜的周边是基本上恒定的。每个截口包括间隙向反射镜衬底或反射镜之中的延伸,并且每个截口具有介于约50微米至约200微米之间的长度以及介于约50微米至约100微米之间的宽度。至少一个截口被限定在所述万向架结构中并包括所述间隙向所述万向架结构之中的延伸。

根据一个方面,在本公开中所描述的主题涉及一种用于制造微机电系统(MEMS)反射镜组件的方法,该方法包括:在基板衬底中限定腔;使反射镜衬底与基板衬底相耦合以使得反射镜衬底的第一侧面向基板衬底中的腔;在反射镜衬底中限定MEMS致动器、万向架结构和MEMS反射镜的部分以使得MEMS反射镜的第一侧面向基板衬底中的腔并且反射镜衬底的一部分与反射镜隔开一间隙;在反射镜衬底和反射镜中的至少一个中限定一个或多个截口,其中每个截口包括间隙向反射镜衬底或反射镜之中的延伸并且每个截口具有介于约50微米至约200微米之间的长度以及介于约50微米至约100微米之间的宽度;并且其中,至少一个截口被限定在所述反射镜衬底和所述反射镜中并且包括所述间隙向所述万向架结构和所述反射镜之中的延伸;并且在与MEMS反射镜的第一侧相对的MEMS反射镜的第二侧上布置反射材料。

附图说明

如附图所示,前述内容根据本发明的示例实施方式的以下更具体的描述将显而易见。附图不一定按比例绘制,而是将重点放在图示本发明的实施方式上。

图1A图示了根据示例实施方式的垂直梳状驱动致动的双轴反射镜组件的透视图。

图1B图示了图1A所示的反射镜组件的平面图。

图2图示了用于制造诸如图1A和1B所示的反射镜组件的反射镜组件的示例方法的流程图。

图3A-3I图示了根据图2所示的方法所制造的反射镜组件的一部分的截面图。

为了清楚起见,每个图中并非对每个部件都加以标注。附图并不意图按比例绘制的。各附图中的相似附图标记和名称指示相似元件。

具体实施方式

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