[发明专利]顶发射微显示器件彩色过滤层及其制备方法

说明书

本发明公开一种顶发射微显示器件彩色过滤层，包括矩形基板，所述矩形基板的端面被其两条对角线划分为四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；所述S1区域上涂覆有第一负性光刻胶、所述S2区域上涂覆有第二负性光刻胶、所述S3区域上涂覆有第三负性光刻胶。本发明还公开一种顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法。本发明具有像素面积小，可有效提高显示器分辨率的优点。

技术领域

本发明涉及OLED显示领域，尤其涉及顶发射微显示器件彩色过滤层及其制备方法。

背景技术

有机电致发光显示（Organic Light Emitting Display，OLED）由于其自发光、宽视角和响应速度快等优点而被誉为继阴极射线管和液晶显示之后的第三代显示技术。

在众多OLED显示器产品中，微型显示器近年来开始发展，可应用于头戴式视频播放器、头戴式家庭影院、头戴式虚拟现实模拟器、头戴式游戏机、飞行员头盔系统、单兵作战系统、头戴医用诊断系统等。

OLED 微显示器的性能优于目前常见的硅基液晶（Lcos）微显示器，其主要优势有：响应速度极快（1us），低温特性优秀（工作温度范围－40℃～＋85℃），功耗低，机械性能好，抗震性强，适用于军用和高端应用场合。

常规的有机顶部发光微显示器的彩色过滤层结构和普通显示器一样，都是靠彩色过滤层过滤白光以实现彩色显示。到目前为止，用于较高像素密度的OLED器件的彩色过滤层大多以带有过滤有机团的彩色光胶为原材料，在密封层之上使用光刻技术制造而成。

如图1所示，根据现有的光刻技术以及常用的彩色光胶，假定其加工出来的过滤层最小边长为L/2，则拼接后的彩色过滤层面积为4L²，使得单个像素点的面积较大，而由于分辨率显示面积/单个像素点面积，因此造成显示器分辨率较低，无法满足制作更高分辨率显示器的要求。

发明内容

本发明针对现有技术的不足，提供一种像素面积小，可有效提高显示器分辨率的顶发射微显示器件彩色过滤层及其制备方法。

本发明通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、将第一负性光刻胶涂覆在矩形基板的端面上；

步骤二、将步骤一的矩形基板的端面沿其两条对角线划分为四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；

步骤三、将步骤二的基板中的S1区域进行曝光处理，其他三个区域处于避光环境中；

步骤四、将完成步骤三作业后得到的第一片源进行显影，使S1区域光刻胶存留，且除去其他三个区域的光刻胶，从而完成彩色过滤层中S1区域的制作；

步骤五、将第二负性光刻胶涂覆在所述步骤四中的第一片源的端面上；

步骤六、将步骤五的第一片源的端面沿其两条对角线划分为与步骤二中的四个区域一一对应的四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；

步骤七、将步骤六的基板中的S2区域进行曝光处理，其他三个区域处于避光环境中；

步骤八、将完成步骤七作业后得到的第二片源进行显影，使S2区域光刻胶存留，且除去其他三个区域的光刻胶，从而完成彩色过滤层中S2区域的制作；

步骤九、将第三负性光刻胶涂覆在所述步骤八中的第二片源的端面上；

步骤十、将步骤九的第二片源的端面沿其两条对角线划分为与步骤二中的四个区域一一对应的四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；

步骤十一、将步骤十的基板中的S3区域进行曝光处理，其他三个区域处于避光环境中；