[发明专利]顶发射微显示器件彩色过滤层及其制备方法

权利要求书

1.顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将第一负性光刻胶涂覆在矩形基板的端面上；

步骤二、将步骤一的矩形基板的端面沿其两条对角线划分为四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；

步骤三、将步骤二的基板中的S1区域进行曝光处理，其他三个区域处于避光环境中；

步骤四、将完成步骤三作业后得到的第一片源进行显影，使S1区域光刻胶存留，且除去其他三个区域的光刻胶，从而完成彩色过滤层中S1区域的制作；

步骤五、将第二负性光刻胶涂覆在所述步骤四中的第一片源的端面上；

步骤六、将步骤五的第一片源的端面沿其两条对角线划分为与步骤二中的四个区域一一对应的四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；

步骤七、将步骤六的基板中的S2区域进行曝光处理，其他三个区域处于避光环境中；

步骤八、将完成步骤七作业后得到的第二片源进行显影，使S2区域光刻胶存留，且除去其他三个区域的光刻胶，从而完成彩色过滤层中S2区域的制作；

步骤九、将第三负性光刻胶涂覆在所述步骤八中的第二片源的端面上；

步骤十、将步骤九的第二片源的端面沿其两条对角线划分为与步骤二中的四个区域一一对应的四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；

步骤十一、将步骤十的基板中的S3区域进行曝光处理，其他三个区域处于避光环境中；

步骤十二、将完成步骤十一作业后得到的第三片源进行显影，使S3区域光刻胶存留，且除去其他三个区域的光刻胶，从而完成彩色过滤层中S3区域的制作。

2.根据权利要求1所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述第一负性光刻胶为红色负性光刻胶、所述第二负性光刻胶为绿色负性光刻胶、所述第三负性光刻胶为蓝色负性光刻胶。

3.根据权利要求1所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述第一负性光刻胶为红色负性光刻胶、所述第二负性光刻胶为蓝色负性光刻胶、所述第三负性光刻胶为绿色负性光刻胶。

4.根据权利要求1所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述第一负性光刻胶为蓝色负性光刻胶、所述第二负性光刻胶为绿色负性光刻胶、所述第三负性光刻胶为红色负性光刻胶。

5.根据权利要求1所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述第一负性光刻胶为绿色负性光刻胶、所述第二负性光刻胶为红色负性光刻胶、所述第三负性光刻胶为蓝色负性光刻胶。

6.根据权利要求1-5任一项所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述S4区域为空白区域或者采用透明材料进行填充。

7.根据权利要求6所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述透明材料包括SiO₂。

8.根据权利要求1-5任一项所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法，其特征在于，所述S1区域、S2区域、S3区域、S4区域的轮廓均为其底边的长度是高的长度两倍的等腰三角形。

9.一种使用如权利要求1-8任一项所述的顶发射微显示器件彩色过滤层的制备方法制备的顶发射微显示器件彩色过滤层，其特征在于，包括矩形基板，所述矩形基板的端面被其两条对角线划分为四个区域，包括S1区域、S2区域、S3区域、S4区域；所述S1区域上涂覆有第一负性光刻胶、所述S2区域上涂覆有第二负性光刻胶、所述S3区域上涂覆有第三负性光刻胶。

10.根据权利要求9所述的顶发射微显示器件彩色过滤层，其特征在于，所述S4区域为空白区域或者采用透明材料进行填充。