[发明专利]光子晶体薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、提供正硅酸乙酯、无水乙醇以及氨水；

S2、将所述正硅酸乙酯、无水乙醇以及氨水通过溶胶-凝胶法制备得到单分散二氧化硅颗粒；

S3、将所述单分散二氧化硅颗粒加入至所述无水乙醇中，超声分散或搅拌，得到二氧化硅乳浊液；

S4、对所述二氧化硅乳浊液进行高压过滤，得到所述光子晶体薄膜。

2.如权利要求1所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，所述单分散二氧化硅颗粒的粒径为0.5至1μm。

3.如权利要求1所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，在保护性气氛中对所述二氧化硅乳浊液进行所述高压过滤处理。

4.如权利要求3所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，所述高压过滤的具体步骤包括：

在保护性气氛中将所述二氧化硅乳浊液升温到40至80℃，并在大于等于0.1MPa的压力下过滤；

之后保持温度和压强直至薄膜和过滤材料干燥，降温泄压并将形成的光子晶体薄膜与过滤材料分离。

5.如权利要求4所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，用于形成所述保护性气氛的气体选自包括氮气、氩气、空气或氦气中的任意一种或多种。

6.如权利要求4所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，所述过滤材料选自包括纤维素滤纸、聚丙烯滤膜、聚乙烯滤膜、尼龙滤膜、聚醚砜滤膜、玻璃纤维滤膜、聚酯滤膜、聚偏氟乙烯滤膜、聚四氟乙烯滤膜或陶瓷滤膜中的任意一种。

7.如权利要求4或6所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，所述过滤材料具有滤孔，所述滤孔的孔径为0.1至0.5μm。

8.如权利要求1所述的光子晶体薄膜的制备方法，其特征在于，在所述二氧化硅乳浊液中，所述单分散二氧化硅颗粒的含量为0.4至0.8wt％。