[发明专利]减反射玻璃的制备方法

说明书

本发明涉及一种减反射玻璃。一种减反射玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在玻璃基底表面制备第一高折射率层；在所述第一高折射率层的表面制备第一低折射率层；在所述第一低折射率层表面制备防尘层，所述防尘层的材料选自ITO、IXO、AZO及ATO中的至少一种，所述防尘层的厚度为20nm～79nm；及在所述防尘层的表面制备第二低折射率层。上述减反射玻璃的制备方法制备得到的减反射玻璃能够防尘。

技术领域

本发明涉及玻璃领域，特别是涉及一种减反射玻璃制备方法。

背景技术

众所周知，光在两种介质的界面上会发生反射现象，当反射光的光程差恰好等于入射光的半个波长时，反射光会相互抵消，从而大大减少了光学器件的光反射损失，增强了透射光的强度。在光学镜头、展示展柜玻璃等领域，这种减反增透膜玻璃具有非常广泛的应用。

然而，现有的减反射玻璃在干燥的环境中使用时，膜层容易吸附灰尘，从而降低玻璃的减反射效果，即降低了玻璃的增透效果。虽然通过清洁维护可以除去膜表面吸附的灰尘，但长期采取清洁等方式处理，容易在膜表面留下划伤等痕迹，从而永久性地破坏了镀膜玻璃的减反射效果。

发明内容

基于此，有必要针对提供一种能够防尘的减反射玻璃的制备方法。

一种减反射玻璃的制备方法，包括以下步骤：

在玻璃基底表面制备第一高折射率层；

在所述第一高折射率层的表面制备第一低折射率层；

在所述第一低折射率层表面制备第二高折射率层；及

在所述的第二高折射率层的表面制备第二低折射率层；及

在所述的第二低折射率层表面制备薄膜保护层；

其中，所述第二高折射率层包含防尘层，所述防尘层的材料选自ITO、IXO、AZO及ATO中的至少一种，所述防尘层的厚度为60nm～79nm；或

所述第二高折射率层包含折射率调整层及层叠于所述折射率调整层表面的防尘层，所述防尘层的材料选自ITO、IXO、AZO及ATO中的至少一种，所述折射率调整层的折射率为2.0～2.5，所述防尘层的厚度为20nm～79nm，所述折射率调整层的厚度为40nm～100nm。

上述减反射玻璃的制备方法，通过在玻璃基底表面依次制备第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层，各层通过反射干涉，使其具有相对低反射和高透过的光学效果；防尘层的材料选自ITO、IXO、AZO及ATO中的至少一种且通过控制第二高折射率层的厚度，从而即使在干燥的环境中也能起到较好的防尘效果且对减反射膜整体的透光性影响较小；上述减反射玻璃的制备方法制备工艺较为简单，从而能提高生产效率。

在其中一个实施例中，所述第一高折射率层的折射率为2.0～2.5，所述第一低折射率层的折射率为1.47～1.53，所述第二低折射率层的折射率为1.47～1.53。

在其中一个实施例中，所述折射率调整层和所述防尘层的总厚度为80nm～130nm。

在其中一个实施例中，所述第一高折射率层的材料选自氮化硅、五氧化二铌及二氧化钛中的至少一种；所述第一低折射率层的材料为二氧化硅；所述第二低折射率层的材料为二氧化硅。

在其中一个实施例中，所述折射率调整层的材料选自氮化硅、五氧化二铌及二氧化钛中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述第一高折射率层的厚度为5nm～50nm；所述第一低折射率层的厚度为5nm～50nm；所述第二低折射率层的厚度为30nm～120nm。

在其中一个实施例中，所述保护层的材料选自二氧化锆、氮化硅及碳化硅中的至少一种。