[发明专利]一种梯度多层磁性电磁波吸收薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种梯度多层磁性电磁波吸收薄膜，为磁性颗粒膜层和隔离层组成的梯度n层复合薄膜，其特征在于：所述隔离层为磁性氧化物膜层，复合薄膜的物质组成通式，自衬底到面层方向上为：

衬底/M_a1-D_b1-I_(1-a1-b1)/I₁/M_a2-D_b2-I_(1-a2-b2)/I₂/……/M_an-D_bn-I_(1-an-bn)/I_n

其中：M为Fe、Co、Ni铁磁性材料中的一种或其合金；

D为B、Si中的一种；

I为CoFe₂O₄、ZnFe₂O₄、NiFe₂O₄、MnFe₂O₄、NiCo₂O₄、Co₂O₃、Fe₃O₄磁性氧化物材料中的一种；

a_i、b_i分别为M、D材料的体积含量，14％≤a_i+b_i≤99％，其中

a：14～99％，b：0～30％，且a₁＞a₂＞……＞a_n；n不小于3。

2.根据权利要求1所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜，其特征在于：所述层数n介于3～20之间。

3.根据权利要求1所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜，其特征在于：所述磁性颗粒膜层的单层厚度介于5nm～500nm之间，各层彼此独立。

4.根据权利要求1所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜，其特征在于：所述磁性颗粒膜层的厚度逐层递增或逐层递减。

5.根据权利要求1所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜，其特征在于：所述隔离层I_i的厚度介于5nm～50nm之间，i为1～n-1，各层彼此独立。

6.根据权利要求5所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜，其特征在于：所述隔离层I_n为保护层，厚度介于2nm～10nm之间。

7.根据权利要求1～6任意一项所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜的制备方法，采用磁控溅射工艺，包括衬底清洗、衬底和靶材安装和镀膜过程，其特征在于：镀膜过程在诱导磁场作用下溅射生长磁性颗粒膜层。

8.根据权利要求7所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜的制备方法，其特征在于：诱导磁场强度介于100Oe～1000Oe之间。

9.根据权利要求7或8所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜的制备方法，其特征在于：镀膜过程衬底温度介于室温～300℃之间。

10.根据权利要求7或8所述的梯度多层磁性电磁波吸收薄膜的制备方法，其特征在于：镀膜过程氩气气压介于0.2Pa～5Pa之间。