[发明专利]一种用于水平液相外延生长的石墨舟

说明书

技术领域

本发明涉及水平液相外延设备，尤其涉及一种用于水平液相外延生长的石墨舟。

背景技术

水平液相外延设备中，石墨舟用于提供外延片的生长场所，是液相外延的核心。目前所使用的石墨舟主要可以分为放置母液的液槽滑移和放置衬底的滑块滑移两类。衬底滑移类型石墨舟的最大优点是液槽和滑块之间结构紧密，生长时液槽不易移动，可降低母液残留，但是由于滑块上需要挖一个凹槽来放置衬底，在加工过程中凹槽的垂直度和底面的平整度难以保证，因而也会影响高质量外延薄膜的生长。母液滑移类型石墨舟，在底座上设置底板，底板上开设和衬底同样大小的孔道来放置衬底，滑块上也开设孔道来放置母液，拉杆拉动滑块移动使母液与衬底接触，从而在衬底上外延生长一层薄膜。母液滑移类型石墨舟，结构简单、易于加工，但是由于液槽与底板之间的间隙较大，液槽移动过程中容易偏移正常位置，导致与底板之间产生更大的间隙，容易导致薄膜表面出现母液残留，需要进行改良。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、易于加工、使用方便、有利于降低母液残留的用于水平液相外延生长的石墨舟。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种用于水平液相外延生长的石墨舟，包括自下而上依次布置的底座、底板及滑块，所述底座上设有热偶放置孔，所述底板上设有基片放置槽，所述滑块上设有母液槽，所述底座两侧设有可拆卸的挡边，所述底板和所述滑块设于两所述挡边之间，所述挡边上设有用于将滑块压紧于所述底板上的压条。

作为上述技术方案的进一步改进：所述母液槽上设有补偿匀气盖板，所述补偿匀气盖板上设有多个均匀布置的补偿孔，所述补偿匀气盖板外周设有补偿槽。

作为上述技术方案的进一步改进：所述基片放置槽内设置有调整垫片。

作为上述技术方案的进一步改进：两所述挡边的底部通过连接板相连，所述底板位于所述连接板上，所述挡边与所述底座之间通过螺钉销相连。

作为上述技术方案的进一步改进：所述底板包括基片放置板以及位于基片放置板下方的防粘连底板，所述基片放置槽设于所述基片放置板上，所述基片放置板、所述防粘连底板以及所述底座之间设有第一定位销，所述第一定位销上端低于或平齐于所述基片放置板的上表面。

作为上述技术方案的进一步改进：所述底座、所述底板及所述滑块之间设有用于定位所述滑块初始位置的第二定位销。

作为上述技术方案的进一步改进：所述底座底部沿长度方向设有多个定位孔。

作为上述技术方案的进一步改进：所述滑块上设有用来与拉杆配合的腰型孔。

作为上述技术方案的进一步改进：所述滑块上部设有盖板。

与现有技术相比，本发明的优点在于：本发明公开的用于水平液相外延生长的石墨舟，采用类似母液滑移结构，并在滑块上设置母液槽、底板上设置基片放置槽，利用挡边对滑块进行定位、导向，利用挡边上的压条将滑块压紧于底板上，可减少滑块与底板之间的间隙，进而减少母液残留，且结构简单、易于加工；挡边与底座之间采用可拆卸结构，从而可将底座、底板及滑块进行分解，底座上设置热偶放置孔，安装石墨舟时中心测温热偶的石英管与石墨舟底座不需要拆卸，使石墨舟装卸更方便，也可以使测温热偶与底座的相对位置始终保持不变，有利于设备重复进行工艺过程。

附图说明

图1是本发明用于水平液相外延生长的石墨舟的俯视结构示意图。

图2是图1的A-A视图。

图3是图2的B-B视图。

图中各标号表示：1、底座；11、热偶放置孔；12、挡边；13、压条；14、调整垫片；15、连接板；16、定位孔；2、底板；21、基片放置槽；22、基片放置板；23、防粘连底板；3、滑块；31、母液槽；32、补偿匀气盖板；321、补偿孔；33、补偿槽；34、腰型孔；35、保护槽；4、第一定位销；5、第二定位销；6、盖板；7、螺钉销。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。

图1至图3示出了本发明的一种实施例，本实施例的用于水平液相外延生长的石墨舟，包括自下而上依次布置的底座1、底板2及滑块3，底座1上设有热偶放置孔11，底板2上设有基片放置槽21，滑块3上设有母液槽31，底座1两侧设有可拆卸的挡边12，底板2和滑块3设于两挡边12之间，挡边12上设有用于将滑块3压紧于底板2上的压条13。