[发明专利]光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法

说明书

本发明公开了一种光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，其特征在于包括以下步骤：A.配料、B.制浆、C.制粉、D.压制成型、E.干燥、F.施釉和G.烧成。本发明提供了一种光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，具有更安全、使用方便等优点，同时制备的陶瓷可以长期阻碍或抑制陶瓷表面细菌或致病微生物的生长与繁殖，降低致病微生物传播和感染的机会。

技术领域

本发明涉及陶瓷加工技术领域，尤其涉及光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法。

背景技术

日用陶瓷以其美观、实用等优点被广泛应用于日常生活中。虽然其表面的釉层已相当致密和光滑，但由于生产工艺的限制，其表面仍不可避免地存在微小的针孔和凹凸，使其在使用过程中与之接触的一些污染物，在范德华力、毛细管力、氢键等多种物理或化学力的作用下，容易积聚在其表面的凹凸处或进入微孔中造成卫生隐患。虽然现在市场有自洁陶瓷出售，但是其只不过是通过进一步调整釉面的致密程度，以达到易清洁的作用，但是由于这些污染物还会导致日用陶瓷表面细菌等微生物的大量繁殖，对使用者的健康产生威胁。因此目前的自洁陶瓷还不能满足人们对高品质生活的要求。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，具有更安全、使用方便等优点，同时制备的陶瓷可以长期阻碍或抑制陶瓷表面细菌或致病微生物的生长与繁殖，降低致病微生物传播和感染的机会。

本发明采用的技术方案是：

光敏自洁抗菌陶瓷的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

A.配料：按照重量百分比称取坯体原料，高岭土10%，风化砂7% ，钾长石28% ，低火泥32% ，精白砂12% ，废坯粉4% ，黑滑石7%；

B.制浆：按照A中的比例称好原料，并按照料：球：水=1：2：0.35的比例放入球磨机内球磨混合原料；球磨机球磨后形成过250目筛筛余量1.2~1.7%的料浆；

C.制粉：将步骤B中得到的浆料通过喷雾干燥器制成料粉，然后陈化2~3天；

D.压制成型：将步骤C中得到陈化后的料粉压制成砖坯；

E.干燥：将步骤C得到的粉料压制成砖坯，然后梯度升温至200℃，干燥后砖坯含水率在0.5~1%，坯体温度65~70℃；

F.施釉：釉料由如下重量百分比的组分组成：SiO2 52～72％、Al2O3 5～9％、CaO 6～10％、K2O 2～6％、Na2O 0.5～1.5％、ZnO 0.5～3％、Li2O 1～3％、TiO2 4～8％、V2O5 1～3％、Ag2O3 1～5％；

G.烧成：经施釉后的坯体置于窑内烧成，梯度升温至1200～1270℃，烧成时间40~90min，氧化氛围。

本发明的有益效果是：

(1)本发明的自洁抗菌陶瓷釉由于加入了钛元素后，钛金属高温后浮上，填补了传统陶瓷釉的针孔。在釉层特定分子经高温排列后， 令光谱的频率产生跳跃，原子电子层产生变化，吸收空气中的负电子， 产生了一层肉眼看不到的，带负电子的氢氧根离子隔离保护层，也就 形成了氧化钛的光触媒作用，去污、抗菌能力得到了发挥，也具有一 定的氢氧根离子抗菌能力。

(2)本发明的自洁抗菌陶瓷釉由于加入银元素，杀菌能力大增， 具有双重抗菌杀菌作用，并永久作用于产品的釉面，因而具有防污、 抗菌、自洁功能。

(3)本发明的自洁抗菌陶瓷釉配方，适合于采用一次施釉工艺， 不单简化了制作工艺，还降低了成本。

(4)本发明的自洁抗菌陶瓷釉烧制在陶瓷本体表面后，釉面平整度高，晶质细致紧密、光洁度好、无针孔、玻璃感极柔极佳，触摸 感觉非常平滑。

具体实施方式